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第 卷 第 期 西 南师 范 大学 学报 （自然科学版） 年 月
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文章编号： （ ）
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量子!#$%’( 薄膜磁性的解析研究!
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阎玉立 ， 杨晓莉 ， 陈 洪
西南师范大学 物理系，重庆 ； 涪陵师范学院物理系，重庆 涪陵
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摘要：采用变分累计展开方法，计算量子 薄膜的自发磁化强度到了三级累积展开 结果表明：自发磁
C5865.D5-E )
化强度依赖于薄膜的层数，在某一临界厚度以下，自发磁化强度随薄膜原子层数的减小而迅速减小)
关 键 词：量子C5865.D5-E 薄膜；自发磁化强度；变分累计展开
中图分类号： - 文献标识码：
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近年来，磁性金属薄膜因其在超高密度磁记录介质、磁光记录介质、薄膜磁头及传感器等方面逐渐显
示出的应用前景，而越来越吸引着人们的研究兴趣) 当膜厚足够薄时，薄膜趋于二维系统，且表面效应逐
渐显示其影响，从而可以具有与大块材料不同的性能，其中包含了丰富的物理问题 实验上，己相当普遍
)
［］
地发现，磁层厚度减到纳米量级时多层膜磁化强度与温度的关系逐渐过渡到线性 ) 理论上，自旋波理论
［］
显示大块材料的饱和磁化强度与温度的关系满足 #F ! !
律，并预言二维系统中 与 显线性关系 因为
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