气体压强对n型a-SiH薄膜光学性能的影响.pdfVIP

第38 卷 第5 期 电 子 科 技 大 学 学 报 Vol.38 No.5 2009年9月 Journal of University of Electronic Science and Technology of China Sep. 2009 气体压强对n型a-Si:H薄膜光学性能的影响 1 2 2 2 2 1 李 伟 ，陈宇翔，金 鑫 ，姜宇鹏 ，杨 光 ，蒋亚东 (1. 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都 610054; 2. 电子科技大学光电信息学院 成都 610054) 【摘要】用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)制备磷掺杂氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜，研究了辉光放电气体压强(20 ～ 80 Pa)对薄膜折射率、消光系数、光学带隙以及氢含量的影响；用激光拉曼光谱研究了气体压强对a-Si:H薄膜微结构的影响， 并与薄膜的光学性能进行了综合讨论。结果表明，随着辉光放电气体压强的增加，a-Si:H薄膜的光学带隙和氢含量都有不同 程度的增大，但折射率和消光系数却逐步减小；与此同时，薄膜内非晶网络的短程和中程有序程度逐渐恶化。 关 键 词 傅里叶变换红外光谱; 气体压强; 氢化非晶硅; 光学性能; 拉曼光谱 中图分类号 O484.1 文献标识码 A doi:10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.037 Effect of Gas Pressure on the Optical Properties of n-Type a-Si: H Thin Films Deposited by PECVD 1 2 2 2 2 1 LI Wei , CHEN Yu-xiang , JIN Xin , JIANG Yu-peng , YANG Guang , and JIANG Ya-dong (1. State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China Chengdu 610054; 2. School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China Chengdu 610054) Abstract Phosphor doped (n-type) hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films were deposited by radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF-PECVD). The refractive index, extinction coefficient, optical bandgap and hydrogen content of the testing films were investigated by means of ellipsometry and Fourier transform infrared spectra (FTIR) with gas pressure varied from 20 Pa to 80 Pa. The microstructural changes of a-Si:H thin films cau