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V o l. 22 高 等 学 校 化 学 学 报 N o. 6
2 0 0 1 年 6 月 CH EM ICAL JOU RN AL O F CH IN E SE U N IV ER S IT IE S 976~ 979
化学镀镍- 高磷合金的微观结构及晶化行为研究
蒋太祥 吴辉煌
( 厦门大学化学系, 固体表面物理化学国家重点实验室, 厦门 36 1005)
摘 要 采用混合络合剂在酸性体系中进行化学镀镍高磷合金, 并用原子力显微镜 (A FM ) 、透射 电镜
( ) 、差热分析( ) 、 射线衍射( ) 等技术研究所得到的化学镀镍高磷合金的微观结构和晶化行
T EM D SC X XRD
为. 结果表明, 化学镀镍高磷合金具有胞状结构的微观形貌, 镀态时呈典型的非晶态结构, 300 ℃以下对热
非常稳定. 镀层在 343. 8 ℃开始晶化, 400 ℃时完全转化成亚稳相N i P , 440. 4 ℃时进一步转变成稳定的
5 2
N i 和N i P 相. 其晶化行为同从碱性乙二胺镀液中得到的高磷化学镀镍层有明显的差异.
3
关键词 化学镀镍; 高磷合金; 微观结构; 晶化行为
( )
中图分类号 646 文献标识码 文章编号 025 10790 200 1
O A
化学镀镍磷合金由于具有均镀能力好、硬度高、耐腐蚀性和耐磨性强等特性已在工业领域中获得
[ 1~ 3 ] [4, 5 ]
较广泛的应用 . 与低磷镀层相比, 化学镀镍高磷合金具有更优异的耐腐蚀性 和突出的非磁性
[ 6 ] [7 ]
能 , 但 目前高磷化学镀镍存在镀速较慢、循环寿命较短等问题 . 镀液中的络合剂、添加剂不但影响
[ 8~ 10 ]
镀液本身的性能, 而且还会对镀层的结构产生影响 , 因而改善镀液体系对高磷化学镀镍至关重
要. 此外, 高磷镀层用于计算机硬盘磁记录介质的底层时, 要求镀层在 300 ℃以下具有极好的热稳定
[ 6 ]
性 , 但迄今有关高磷镀层热稳定性和晶化行为的研究报道不多.
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