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一种新颖的紫外光强度分布原位测试平台的开发与应用
A for
novelin—situ UVfluencedistribution:
platform
measuring
and
Developmentapplication
李梦凯强志民’李庭刚史彦伟
(中111科学院生态环境研究中心环境水质学国家重点实验室.北京100085)
E-mail:qiangz@rcees.ac.cn电话:010
摘要:
本文研发了基于荧光玻璃探头的紫外光(UV)强度原位测试平台并对uv消毒器内的
光强度分布进行了测试.该平台主要由荧光玻璃探头、可沿垂直和水平方向移动的精确导轨、
EX.10型UV消毒器进行实际测
温控系统等组成,其测试误差为1%。应用该平台对Onyx
试,获得在处理不同紫外透过率(UvT)水的情况下腔体内距离上法兰0-260mm之间的光
强度分布o,随后可据此推算出全腔体内的UV强度分布及实际辐射剂量。此外,通过测量
UV消毒器在5—39
oc区间的温度系数,发现水温对UV辐射剂量有显著的影响。本平台的
开发为UV消毒器内光强度分布的实际测定提供了一种简捷、快速、可靠的新方法.
1引言
紫外光(UV)具有广谱消毒、低费用、无消毒副产物等优点,已被广泛应用于饮用水、
市政污水、再牛水和船舶压舱水的消毒中。UV消毒系统的整体消毒效果依赖于UV的实际
(有效)辐射剂晕.,因此UV消毒器内光辐射剂量的精确测试对于保障安全消毒有十分重要
的意义。对丁传统的化学消毒法(如氯气、二氧化氯等),可通过检测消毒剂余阜=结合接触
时间米推测消毒效果:然而,作为物理消毒法之一的UV消毒。目前还缺乏行之有效的测试
方法。
目前,生物剂量法【l,2】足紫外消毒系统较广泛采用的验证方法。在各国制定的标准中,
the
UnitedStates(US
水紫外消毒标准中,也规定以生物剂量法做为验证方法。生物剂量法在验证过程中要模拟不
同的工作环境(不同流量,灯管输出,紫外透过率),以确定其在不同环境卜.的处理效果。
主要优点在于它可以在实际运行的条件下直接测定消毒效果,为实际运行和技术改进提供参
考。然而,它不能准确量化的反应消毒系统巾紫外线消毒情况。冈此,目前提出,紫外消毒
系统的消毒效粜主要受到系统中紫外线强度分布,流体动力学分布.目标消毒微生物的紫外
线灭活效率以及客观环境冈素的影响。而随两者是消毒系统的内部因素,对其准确的测定,
可以了解其消毒剂量,处理量以及处理系统的使用范围。
晕化测晕系统中紫外线强度分布可以很好的指导消毒系统的改进,优化。并结合流体动
力学模型(CFD)计算消毒系统的消毒剂量。口前,主要通过计算模型获得。主要的计算模
型包括线光源积分(LS!)、多点源替加(MPSS)等【3.61,通过恰:l,I的使用,计算模型可以
很好的代表消毒效果。凶此.这套方法已被世界各人紫外消毒系统生产厂商J“泛采用。然而,
在实际应用中,计算所需的关键参数,包括灯管的输出效率,套管的污染情况等均/fi能准确
确定.消毒系统内部,由于套管,消毒器腔壁等处反射。折射等光学行为十分复杂,准确计
算f‘分困难。使得模型计算的准确性和实用性大大降低。冈此,即使计算模制目前可以较好
的预测系统中的消毒剂量,我们认为,实际紫外消毒系统的验证,还是需要在实际测量的基
础上配合计算模!}ll!进行。
最新开发的原能荧光玻璃探头,其近似360度响应的特性,可以较好的测景的微生物紫
外响应的强度分布。其具稳定性好。响应速度快,体积小等优势。在之前的研究中发现町以
.597.
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根好的测量消毒器巾紫外线强度
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