甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷改性SiO的制备.pdfVIP

第 34 卷 第 3 期 北 京 化 工 大 学 学 报 Vol. 34 , No. 3 2007 年 JOURNAL OF BEIJ IN G UN IV ERSIT Y OF CHEMICAL TECHNOLO GY 2007 甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷改性SiO2 的制备 姜立忠 　战佳宇 　武德珍 　金日光 (北京化工大学新型高分子材料制备与加工北京市重点实验室 , 北京 　100029) ( ) ( ) 摘 　要 : 采用原位一步法制备了表面甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷 MPS 改性的单分散纳米二氧化硅 SiO2 粒 ( ) ( ) 子。该过程将纳米 SiO2 的缩合形成过程与功能化改性同步进行 ,并用红外光谱 FTIR 、X 射线光电子能谱 XPS 、 ( ) ( ) 透射电子显微镜 TEM 、热失重分析 TGA 等测试方法研究了粒子的表面化学结构、形态和分散性以及粒子中 MPS 的含量。结果表明 ,原位一步法制备的 MPS 改性纳米 SiO2 粒子粒径约 75 nm ,基本上呈单分散状态 ,且含有 2 μ 大量的 MPS 功能性基团 ,其表面密度为 345 mol/ m 。 ( ) 关键词 : 原位一步法 ; 甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷 MPS ; 单分散 ; 纳米二氧化硅 中图分类号: TQ1272 将粒子制备与表面改性分开进行。通过硅烷偶联剂 引　言 与纳米 SiO2 粒子表面上的羟基发生反应 , 从而和 自从1968 年 Stber 在醇介质中以氨为催化剂 SiO2 以化学键连接, 在粒子表面形成一层能与被填 ( ) 水解正硅酸四乙酯 TEOS 成功合成出单分散的二 充聚合物分子链发生反应的亲油性基团。然而 ,通 ( ) [1 ] 过这种方法难以获得较高的表面功能化基团密度 , 氧化硅粒子 SiO2 以来 ,单分散纳米 SiO2 粒子以 其优异的耐高温、高强度和耐磨等性能 ,在塑料、橡 从而导致改性效果不佳。 胶、纤维、涂料和催化剂载体等领域被广泛应 为了提高纳米 SiO2 粒子表面功能化基团密度 , 用[24 ] 。然而 , 由于单分散纳米 SiO2 粒子的粒径小、 改善其在有机物介质中的分散性 ,本文以 TEOS 为 ( ) 比表面积大、