注入,型-单晶的特性研究.pdfVIP

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2017-09-15 发布于重庆
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注入,型-单晶的特性研究.pdf

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第卷第期功能材料与器件学报 5O^0 / EO0 年月 ’##( 2 UTH=E?F T@ @HELDGTE?F +?DA=G?FB ?E A5GLAB +S[8R/ ’##( 文章编号! ##$ % ’(’ ) ’##( * # % ## ( % # 注入型单晶的特性研究 +, , -. ， ’ 刘力锋陈诺夫尹志岗杨霏周剑平张富强 / / / / / （中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室，北京 0 ###123 ’0 中国科学院力学研究所国家微重力实验室，北京 ###12 ） 7 % ’ （）摘要：采用离子能量为，剂量为的离子注入技术，室温下往型单晶 ##4.5 2 6 # 89 , -. 衬底注入 : 离子，注入后的样品进行热处理。利用射线衍射法) = * 和原子力显微 +, ##; % （） ) * 镜 ?@+ 对注入后的样品进行了结构和形貌分析，俄歇电子能谱法 ?AB 进行了组分分析，交变（）梯度样品磁强计 ?-+ 进行了室温磁性测量。结果表明原位注入样品的结构是非晶的，热处理后发生晶化现象。没有在样品中观察到新相形成。离子较深的注入进衬底，在处 +, -. ’# ,9 +, 原子百分比浓度达到最高为。热处理后的样品表现出了室温铁磁特性。 1C 关键词：离子注入锗铁磁性稀磁半导体 3 3 3 中图分类号