低收缩耐候性紫外光固化材料的研制.pdfVIP

第 卷 第 期 武 汉 理 工 大 学 学 报 35 暋 2 暋 暋 暋 暋 暋 暋 暋 Vol.35暋No.2 年 月 JOURNALOFWUHANUNIVERSITYOFTECHNOLOGY 暋Feb.2013 2013 2 棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁棁 : / doi10.3963 .issn.1671灢4431.2013.02.003 j 低收缩耐候性紫外光固化材料的研制 , 吕雪松 翁 睿 暋 ( , ) 武汉理工大学材料科学与工程学院 武汉 430070 : , 。 摘 要 采用正交试验的方法 研制了一种新型低收缩耐候性紫外光固化材料 该体系包括 改性的自制纳米 暋 暋 KH灢570 ( )、 、 ( 、 )、 (, 二氧化硅 自制双酚 环氧丙烯酸 光引发剂 活性稀释剂 及螺环膨胀单体 二乙基 75nm A 8311173 TMPTA 39灢 灢 , ,,, , )。 、 、 、 二羟甲基 四氧杂螺环 十一烷 通过控制改变二氧化硅 活性单体 光引发剂 螺环单体与丙烯酸树 39灢 灢15711灢 灢55灢 。 : , , , 脂的不同配比进行试验 结果表明 当二氧化硅用量为10% 活性稀释剂 TMPTA用量 15% 膨胀单体用量 15% 复合 , , 。 , , 光引发剂用量 3%时 体系综合性能最佳 耐紫外老化性能得到明显改善 该体系性能优良 有广阔的应用前景 当改变 , 。 稀释剂种类时 还可以应用于补牙材料 : ; ; 关键词 正交试验 纳米二氧化硅 膨胀单体 暋 暋 暋 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) 暋V258 暋A 1671灢4431201302灢0012灢04 ResearchonLowShrinkaeandWeatherin Resistance g g UV灢curableMaterial , LVXue灢son WENGRui