掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究.pdfVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ’’ ( %%( ( ， ， ， OK0 :’’ UK :( +,F1 %%( （ ） !%%%)$E%A%%(A’’ %( A**!)%( N=PN QRST@=N T@U@=N !%%( =VHF : QVWC : TK : ############################################################### 掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究! ）） ）） ）） ）） ） ） ） ） ! ! ! ! ! ! # $ $ 达 宁 杨旅云 彭明营 孟宪庚 周秦岭 陈丹平 赤井智子 角野广平 !）（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 %!%% ） ）（中国科学院研究生院，北京 !%%%% ） $ ）（日本产业技术综合研究所，大阪’($)’** 日本） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %%’ * %%’ !! !* 应用+,--)./012 理论计算了新型掺铒高硅氧玻璃中铒离子的强度参量 （ ，，）， 7% ， ! ! 3 4 ( ! 3 5 !’ 6 !% ! 3 ! 4 !54$ 6 !%7% ， 3 !5 6 !%7% ，相比于其他氧化物玻璃，表现出较大的 值，反映了铒离子周围的近邻结构不对 ， ! ! ( ( 称性和 键的离子键成分较高 利用 理论计算得到了能级4 4 跃迁的受激发射截面为 89). : ;=,?19 @ @ 3 !$A !’A