光学塑料真空镀膜附着力原理与工艺研究.pdfVIP

第 24 卷　第 3 期 V o l. 24　N o. 3 　　　　　　　　　　　　　　　　　　应 用 光 学　　　　　　　　　　　　　　　　　 2003 年 2003 ( ) 文章编号: 1002- 2082 2003 03- 0032- 03 光学塑料真空镀膜附着力机理与工艺研究 潘永强, 卢进军, 万菁昱 (西安工业学院 光电科学与工程系, 陕西 西安　710032) 摘　要: 　依据光学塑料的基本特性, 研究光学塑料真空镀膜过程中附着力的有关问题。论述薄膜生长过程中影响薄膜 附着力的各种因素, 针对其相关因素作了具体的理论分析。在真空镀膜实验的基础上, 提出了一种提高真空镀膜附着力 的具体方法。 关键词: 　光学塑料; 薄膜; 附着力; 真空镀膜 中图分类号: O 484. 41- 34　　　　　　文献标识码:A 引言 力而不开裂或脱落。其次, 光学塑料表面具有高阻抗 光学塑料的应用已在光学领域中占据了相当重 的特性, 它摩擦后容易产生静电。若塑料镜片带上了 要的地位。为了进一步提高光学塑料的机械性能和光 静电, 就会使塑料表面吸附灰尘, 这些灰尘不易用吹 学性能, 光学塑料的镀膜越来越受到人们的重视。薄 气球吹去也不易用纱布擦掉, 从而使膜层产生麻点或 膜对光学塑料基底的附着力直接影响薄膜的各种性 开裂。另外, 由于光学塑料的耐热性差和吸水性大, 所 能。此外, 由于薄膜在镀制过程中其结构受到工艺等 以给光学塑料真空镀膜和提高膜层附着力带来很大 因素的影响致使薄膜内部产生一定的内应力; 同时, 的困难。此外, 光学塑料的热膨胀系数大, 如果光学塑 因基片材料与薄膜材料之间热膨胀系数的不同, 还会 料和薄膜材料的热膨胀系数差异太大, 就会在成膜过 使薄膜产生热应力, 应力过大将会使膜层开裂甚至脱 程中或成膜后, 因温度变化而产生应力导致膜层开 落, 因此在光学塑料的镀膜中, 其薄膜的附着力和应 裂, 甚至使膜层和光学塑料基底之间产生剥落现象。 力仍是值得研究的课题。本文从光学塑料的特性出 发, 通过薄膜附着力的理论分析, 提出了用等离子体 2　膜层的附着力 轰击技术来提高薄膜附着力的一种方法。 2. 1　附着力的定义 所谓附着力, 又称结合力, 就是膜层以多大的强 1　光学塑料的特性 度附着或结合在基片上。M ittal 把附着力分为两 光学领域最常用的光学塑料有: 聚甲基丙烯酸甲 [ 2 ] 种 : 一是基础附着力; 二是实际附着力。基础附着力 脂 (PMM A ) 、聚苯乙烯(PS) 和聚碳酸脂(PC ) 3 种热 是薄膜和基片保持接触, 在其界面处的结合力, 本来 塑性塑料。为了在光学塑料上进行真空镀膜, 必须充 起源于离子键、共价键、金属键、氢键和范德瓦尔斯键 分了解光学塑料和膜料的理化性能及其相互关系, 以 等。但这样定义的附着力与我们研究的附着力相差甚 采取相应的措施, 扬长避短。下面着重讨论与真空镀 远, 实际上对这种附着力不