退火温度对a-CH膜结构及摩擦学性能的影响.pdfVIP

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第26 卷 第2 期 无 机 材 料 学 报 Vol. 26 No. 2 2011 年2 月 Journal of Inorganic Materials Feb. , 2011 文章编号: 1000-324X(2011)02-0209-05 DOI: 10.3724/SP.J.1077.2011.00209 退火温度对 a-C:H 膜结构及摩擦学性能的影响 1,2 1 1 1 1 1 王永霞 , 冶银平 , 李红轩 , 吉 利 , 陈建敏 , 周惠娣 (1. 中国科学院 兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室, 兰州730000; 2. 中国科学院研究生院, 北京100049) 摘 要: 为研究环境温度对含氢无定形碳(a-C:H)膜结构和性能的影响, 将a-C:H 膜在大气环境中进行高温退火处理, 并借助红外光谱、拉曼光谱、X 射线光电子能谱、3D 表面分析仪和球盘摩擦试验机等手段对退火前后a-C:H 膜的 结构、组成和性能进行了系统地考察. 研究发现, 在较低的退火温度下(300℃), a-C:H 膜结构无明显变化, 而其内应 力降低, 摩擦学性能显著提高; 在 400 ℃和 500℃下退火, 膜结构发生明显变化并伴随严重氧化, 同时摩擦学性能 降低甚至完全失效. 结果表明, 退火温度的选择对a-C:H 膜的结构、组成及性能具有重要影响. 关 键 词: a-C:H 膜; 退火温度; 结构; 摩擦学性能 中图分类号: O484 文献标识码: A Effect of Annealing Temperature on the Structure and Tribological Property of a-C:H Film 1,2 1 1 1 1 1 WANG Yong-Xia , YE Yin-Ping , LI Hong-Xuan , JI Li , CHEN Jian-Min , ZHOU Hui-Di (1. State Key Laboratory of Solid Lubrication, Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Lanzhou 730000, China; 2. Graduate University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China) Abstract: Hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films were annealed in air, to investigate the effect of ambient temperature on the structure and properties of a-C:H films. After annealed a

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