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现代制造工程2010年第9期 设备设计／诊断维修／再制造
ICP光源中负载匹配箱的设计’
王超1．一，金星1，石宝松1，一，杜江3
(1中国地质大学(武汉)机械与电子信息学院，武汉430074；2中国科学院长春光学精密
机械与物理研究所，长春130033；3北京海光仪器公司，北京100016)
摘要：阐述电感耦合等离子体(InductivelyCoupledPlasma，ICP)光源中负载匹配箱的设计方案，对等离子体产生过程中
的负载阻抗变化进行深入分析。利用ADS软件对ICP光源负载阻抗的电路模型进行阻抗匹配仿真，根据仿真结果，提
出等离子体产生过程中阻抗匹配网络的控制策略和参数范围。在多次等离子体的点火实验中，成功将氩气电离，顺利产
生并稳定维持了环形球状等离子体火焰。
关键词：ICP光源；阻抗匹配；等离子体
中图分类号：TN741文献标识码：A文章编号：167l—-3133(2010)09—0132—03
ofload boxofICPsource
Design matching
WANG
Cha01”，JINXin91，SHIBao．son91”，DUJian93
ofMechanicalElectronic of
(1Faculty Information，ChinaUniversityGeoseiences，
Wuhan Instituteof Mechanicsand
430074，China；2 Academy
Changchun Optics，Fine Physics，Chinese
of 130033，China；3 Instrument 100016，China)
Sciences，ChangchunBeijingHaiguang Co．Ltd．，Beijing
Abstract：Aload boxof is load characteristicin
CoupledPlasma(ICP)80ureedesigned，theimpedance
matchingInductively
is is
formation circuitmodelof networksimulatedADSsoftware
plasma analyzed．The impedancematching by system，moreover
simulationresult．Plasmaof
control of a舱determined is
strategyand船119eparametem by dischargeargongasgeneratedsmoothly
andstabilizedinexperiments．
words：ICP
Key source；impedancematching；plasma
0 引言
等离子体的阻抗只有0．5—1．511…，为了满足产生并
在现代分析测试仪器中，ICP—MS、ICP—AES(OES)
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