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第 29 卷 第 1 期 北 京 化 工 大 学 学 报 Vol. 29 , No. 1 2002 年 JOURNAL OF BEIJ IN G UN IV ERSIT Y OF CHEMICAL TECHNOLO GY 2002 改进 PIV 技术在测量搅拌槽内流场中的应用 聂毅强 　包雨云 　施力田 (北京化工大学化学工程学院 , 北京 　100029) ( ) 摘 　要 : 简化了粒子成像测速技术 PIV 的数据采集系统 ,通过 AU TOCAD 的二次开发 ,改进了 PIV 的图像处理 。 降低了成本 ,提高了测量精确度 ,并使之能适用于大尺寸 、流质透明度较差的搅拌槽体系的流场测量 。将改进 PIV 技术应用于搅拌槽内质量分数为 0 6 %CMC 水溶液和清水流动场的测量 ,粒子图像清晰、数据准确可靠 。 关键词 : PIV 技术 ; 搅拌槽 ; 流动场测量 ; AU TOL ISP 语言 中图分类号 : TQ027. 2 ( ) Δ ( ) Δ ( ) ux x , y , t = x x , y , t / t 1 引　言 ( ) Δ ( ) Δ ( ) uy x , y , t = y x , y , t / t 2 搅拌槽内流体流动是一个有限空间内非定态的 PIV 法测量流场速度的过程分两步 。第一步 , 复杂过程 ,影响因素多 ,理论分析难度大 ,因此 ,实验 ( ) 照相采样 如图 1 所示 。在被测量的流体介质中加 测量是取得有关搅拌槽内流场的详尽信息的重要手 入适当示踪粒子 ,调节高强度脉冲片光源 ,使其通过 段 。 被测量平面 ,并根据预先估计的流体流动速度 ,确定 目前先进的流速测量技术主要有激光多普勒测 三次脉冲之间的时间间隔 ,使用成像设备拍摄示踪 ( ) 速技术 LDV ,Laser Doppler Velocimetry 和粒子成 粒子在脉冲光源三次脉冲所成的图像 。第二步 , 图 ( ) 像测速技术 PIV , Particle Image Velocimetry 等 。 像分析 。三次脉冲曝光后 ,照相底片上形成许多粒 这些测量方法具有不干扰流场 ,测量精度高 ,动态响 子像组 。完整的粒子像组为一个粒子的三次成像 , 应快 ,分辨率高等优点 ,实现了实时采集分析 、显示 如果粒子像组中的一个或两个像落在光平面以外 , 粒子图像 、速度矢量图 ,成为流速测量的首选 。但 则该像组应舍弃 。由于三次脉冲之间时间间隔不 LDV 技术和商业化的 PIV 设备只适于测量透明度 等 ,可以利用三个粒子像间的不等距离判断粒子运 高的流场[1 ] , 不适于尺寸较大 ,流质透明度较差的