沉积温度对非晶碳薄膜结构影响的研究.docVIP

  沉积温度对非晶碳薄膜结构影响的研究# 章晓中，万蔡华* （清华大学材料科学与工程系，北京 100084） 5 10 15 20 25 30 35 摘要：铁掺杂的非晶碳薄膜用脉冲激光沉积技术沉积于硅衬底之上。针对这种异质结的电流 电压测试显示异质结势垒高度在 300 摄氏度以下逐渐减小，而在 300 摄氏度以上迅速增加。 针对界面能带结构的分析显示势垒高度的变化源自于碳薄膜带隙宽度的变化。而拉曼和电子 能量损失谱结果均显示 300 摄氏度以上带隙的异常增加源自非晶碳π带和π*带的变窄，而 2 2 中图分类号：TB34 The influence of depositing temperature on the structure of amorphous carbon films ZHANG Xiaozhong, WAN Caihua (The department of materials science and engineering, Tsinghua University, Beijing 100084) Abstract: Iron doped amorphous carbon films were deposited on silicon substrates at different temperatures. The barriers of these