激光清洗硅片表面犃犾颗粒的试验和理论分析.pdfVIP

第 卷 第 期 光学 精密工程 １４ ５ 　 Ｖｏｌ．１４ Ｎｏ．５ 　 　 　　　　　　　　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　　　　　　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２００６ １０ Ｏｃｔ．２００６ 　　 　　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２００６０５０７６４０７ 　 激光清洗硅片表面犃犾犗 颗粒的试验和理论分析 ２ ３ ， １２ ２ １ １ １ ２ 吴东江 ，许 媛 ，王续跃 ，康仁科 ，司马媛 ，胡礼中 　 （ 大连理工大学 精密与特种加工教育部重点实验室，辽宁 大连 ； １． １１６０２４ ２．大连理工大学 三束材料改性国家重点实验室，辽宁 大连 １１６０２４） 摘要：以ＫｒＦ准分子激光器为激光源，对目前工业上常用的硅片研磨抛光液的主要成分 ＡｌＯ 颗粒进行激光清洗的试 ２ ３ 验和理论分析。建立一维热传导模型，利用有限元分析软件 ＭＳＣ．ＭａｒＣ模拟硅片表面的温度随激光作用时间和能量密 度的分布。通过理论计算，量化了颗粒所受到的清洗力以及其与硅片表面之间的粘附力，理论预测出 １ ｍＡｌＯ 颗粒 μ ２ ３ ２ 的激光清洗阈值为 ／ 。在理论分析的指导下，利用 、 的 准分子激光进行单因素试验，研究激光 ６０ｍＪｃｍ ２４８ｎｍ ３０ｎｓ ＫｒＦ 能量密度、脉冲个数、激光束入射角度对激光干法清洗效率的影响，并且实验验证了清洗模型以及场增强效应对激光清 洗结果的影响。 关 键 词：激光清洗；硅片；清洗效率； 颗粒 ＡｌＯ 　 　 ２ ３ 中图分类号： 文献标识码： ＴＮ２４９ Ａ 　　 犈狓犲狉犻犿犲狀狋犪犾犪狀犱狋犺犲狅狉犲狋犻犮犪犾狊狋狌犱 狅狀犾犪狊犲狉犮犾犲犪狀犻狀 犃犾犗 狆 狔 犵 ２ ３ 狆犪狉狋犻犮犾犲狅狀狊犻犾犻犮狅狀狑犪犳犲狉狊狌狉犳犪犮犲 ， １２ ２ １ １ １ ２ ， ，