用化学镀法制备PdAg膜时膜厚和组成的控制.pdfVIP

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2017-09-12 发布于重庆
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用化学镀法制备PdAg膜时膜厚和组成的控制.pdf

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第 30 卷第 12 期催化学报 2009 年 12 月 Vol. 30 No. 12 Chinese Journal of Catalysis December 2009 文章编号: 0253-9837(2009)12-1227-06 研究论文: 1227~1232 用化学镀法制备 Pd/Ag 膜时膜厚和组成的控制 1,2 1,2 1 曾高峰 , 史蕾 , 徐恒泳 1 中国科学院大连化学物理研究所, 辽宁大连116023 2 中国科学院研究生院, 北京100049 摘要：研究了不同 Pd2+含量的镀液在多孔陶瓷载体上的化学沉积规律, 发现当 Pd 沉积层厚度达到约 5 μm 后, 即使镀液中反应物的消耗比例很小, 膜厚增长也明显变缓, 沉积反应主要受膜层表面的催化活性位控制; 当镀液中 Pd2+ 含量只能沉积形成小于 4 2+ + μm 的 Pd 膜时, 在 323 K 化学镀 180 min 后, 镀液中 Pd 的转化率高于 90%. 与之相似, 当 Ag 镀液中的 Ag 含量等于 0.5~2 μm 的 Ag 膜层所需量时, 在 333 K 化学镀 120 min 后, Ag+ 的转化率可达 95%. Ag+ 的高转化率与 Ag 颗粒的择向生长特性有关. 根据 Pd 和 Ag 的化学镀沉积规律, 通过调节镀液中金属离子的含量能够预先设计和精确控制超薄 Pd/Ag 膜的膜厚和组成. 关键词：钯; 银; 复合膜; 化学镀; 膜厚控制; 组成控制; 沉积规律中图分类号：O643 文献标识码：A Control of Thickness and Composition of Pd/Ag Membrane during Layer-by-Layer Electroless Plating ZENG Gaofeng1,2, SHI Lei1,2, XU Hengyong1,* 1 Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences, Dalian 116023, Liaoning, China 2 Graduate University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China Abstract: The deposition rules of Pd were investigated during electroless plating in baths with diff