低电压（10V）下镁合金表面电化学氧化膜层.pdfVIP

2008年 12月 北 京 航 空 航 天 大 学 学 报 Deeember 2008 第34卷 第12期 JournalofBeijingUniversityofAeronauticsandAstronautics Vol_34 NO．12 低 电压 (10V)下镁合金表面 电化学氧化膜层 朱立群 王喜眉 张玲玲 (北京航空航天大学 材料科学与工程学 院，北京 100191) 摘 要：基于高电压下氧化成膜有可能对镁合金基材机械性能造成损伤．研究了在 以硅酸钠为主要成分 的电解液 中，施加 10～110V交流电压对 AZ91D镁合金表面进行 电化学 氧化的成膜过程．探讨了氧化电压、氧化时问等对膜层性能的影响规律，并且对所获得氧化膜 层进行了微观分析．结果表明：在 10V电压下氧化就能获得与70～110V电压下耐腐蚀性相 当 的氧化膜层 ；而且在 10V交流 电压下获得的氧化膜层形成过程为颗粒状形式一连接成块状一 完整的膜层一交错叠式生长等4个阶段． 关 键 词 ：镁合金；低 电压氧化；氧化膜层；硅酸钠 中图分类号 ：TG174．451；TG146．2；TQ153．6 文献标识码 ：A 文 章 编 号 ：1001—5965(2008)12-1402—05 Electrochemicaloxidationfj1mofmagnesium alloyatlowvoltage(10V) Zhu Liqun WangXimei ZhangLingling (SchoolofMaterialsScienceandEngineering，BeijingUniversityofAeronauticsandAstronautics，Beijing100191，China) Abstract：Anodicoxidationcoatingsformed onthesurfaceofmagnesium alloysathighervoltagecould degradethemechanicalperformanceofthemagnesium alloysmateria1．Inordertoovercometheshortcomingof mechanicalperformancereduction，theelectrochemicaloxidationfilmswereprepared on AZ91D magnesium alloy inNa2SiO3mainlycontainedsolutionandtheelectrochemicaloxidationvoltagewhichwassuppliedbyAC powersupplywasfrom t0V to 110V．Thegrowthprocessoftheelectrochemicaloxidation onthesurfaceof AZ91D magnesium alloyswasstudied．The influenceofoxidationvoltageandelectrochemicaloxidationtime ontheoxidationfilmswasdiscussed．Themicrostructureoftheelectrochemicaloxidationfilmsformedatdiffer． entoxidationvoltageandtimewereanalyzedaswel1．Theresultsshow thatthecorrosionresistanceoftheelec— trochemicaloxidationfilmsformedat10V isasgoodasthatformedat70～110V．Thegrowthprocessofthe electrochemicaloxidationfilms~rmed at10 V could besummarized underfourstepswhich aregrain—like， block—like，integrated insulatingandcross—layerfilmsresp