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第 31 卷第 6 期 微 电 子 学 V o l31, № 6
2001 年 12 月 M icroelectron ics D ec 2001
文章编号:(2001)
四甲基氢氧化铵在M EM S 中的应用
张 为, 姚素英, 刘艳艳, 王涌萍, 阎富兰, 田莉萍, 牛秀文
(天津大学 电子信息工程学院, 天津 300072)
摘 要: 通过各向异性腐蚀硅杯实验, 研究了四甲基氢氧化铵(TM A H ) 腐蚀液的特性, 包括硅
( )
100 面腐蚀速率与溶液浓度、温度的关系, 不同腐蚀条件下硅杯的表面状况, 并确定了制作硅杯的
最佳工艺条件。通过测试硅杯结构多晶硅压力传感器的输出特性, 证明了TM A H 确实是一种性能
优良的各向异性腐蚀剂。
关键词: ; ; 各向异性腐蚀; 硅杯
M EM S TM A H
中图分类号: 304. 2+ 1; 454 文献标识码:
TN TN A
Applica tion of TM AH Solution in M EM S
, , , ,
ZHAN G W ei YAO Su ying L IU Yan yan W AN G Yong p ing
, ,
YAN Fu lan T IAN L i p ing N IU X iu w en
( , , 300072, )
S chool of E lectronics and Inf orm ation E ng ineering T ianj in U niversity T ianj in P R Ch ina
Abstract: T h rough experim ents on silicon cup m anufacturing, the characteristics of TM A H so lution are
discussed, including the dependence of etch ing rate of ( 100) o riented silicon crystal p lane on concentration and
temperature, and the surface conditions under different etch ing environm ents T he op tim al p rocess conditions fo r
m anufacturing silicon cup are also obtained T he experim ental results demonstrate that the output characteristics
of po lysilicon p ressure senso rs w ith sil
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