半导体集成电路的可靠性.pdfVIP

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MM .. II .T..T. 导体集成电路的可靠性 - 自旋的电子 6.12J / 3.155J 微电子工艺 Read Campbell, p. 425 -428 and Ch. 20. Sec. 20.1, 20.2; Plummer, Sec. 11 .5.6 IC可靠性: 成品率 = (# 有效器件) / (总数 # 产出) 随着时间阶段的不同, 器件失效有不同的机理: 表面的粒子中断淀积, 器件产生裂纹 由于充电或者介质击穿,氧化物,电介质 失效 通过腐蚀金属失效 电迁移:当器件工作时,金属互连线内有一定电流通过,金属离子 会沿导体产生质量的输运,其结果会使导体的某些部位产生空洞 或晶须,产生失效. (Ohring, p. 379 - 383) 磁系统: 相互扩散, 应力 自旋电子的可靠性, 是一种非挥发性的磁性随机存储 器(MRA M) N o v . 2 4 , 2 0 0 3 导体I Cs的可靠性 为什么这是个问题? 6.12J / 3.155J 微电子工艺 有效的成品率是以下的乘积: Y1 x Y2 x Y3 (e.g., a 10-步工艺,每次成品率为95% =60% 的成品 率) 缺陷密,D,, 减 少 , 随 后 又 增 大 ““经验曲线””: 成品率vs.批号和r 动态随机存储器 a v e r a g e r o v e r l as t 7 7 l ot s . N o v . 2 4 , 2 0 0 3 1 消除缺陷 缺陷密度 6.12J / 3.155J 微电子工艺 最简单的成品率模型假定是独立的,随机分布缺陷, (泊松分布): A = 基片面积 AD =重叠基 生产 D = 缺陷数/面积 片缺陷的几 率 A D 3 粒子控制: 类_______ (Max #/ft ) 0.5 mm 1 1 10 10

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