过滤电弧沉积非晶金刚石薄膜的光谱椭偏研究.pdfVIP

第 2 6 卷 , 第2 期 　 　　　　　　　　　　　光 谱 学 与 光 谱 分 析 Vol 26 ,No2 ,pp 203207 2 0 0 6 年 2 月 　　　　　　　　　　　 　Sp ect ro scop y and Sp ect ral Analy si s February , 2006 　 过滤电弧沉积非晶金刚石薄膜的光谱椭偏研究 1 1 2 1 朱嘉琦 , 韩杰才 , 陶艳春 , 姜春竹 1 哈尔滨工业大学复合材料与结构研究所 , 黑龙江 哈尔滨 　150080 2 吉林大学超分子结构与材料教育部重点实验室 , 吉林 长春 　1300 12 摘 　要 　为了深入理解过滤阴极电弧沉积非晶金刚石薄膜的光学性质 , 利用光谱椭偏仪研究了薄膜光学常 数随测试偏振光波长变化的谱学关系 , 进而分析了薄膜折射率 、消光系数和光学带隙与沉积能量之间的变 化规律 。实验表明 , 非晶金刚石薄膜的折射率高于金刚石晶体的折射率 , 薄膜的吸收光谱在高吸收区可以用 抛物线型函数描述 , 并由此计算 Tauc 带隙。随着波长向红外延伸 , 非晶金刚石薄膜的消光系数渐次降低并 趋近于零 , 光学常数因沉积能量变化而实现的调整幅度也逐渐缩小 。随着衬底偏压的增加 , 折射率和光学带 隙都是先升高后减小 , 并在负偏压为 80 V 时有最大值 ; 而消光系数却是先减小再升高 , 在负偏压为 80 V 时 有最小值 。 主题词 　非晶金刚石 ; 光谱椭偏 ; 过滤阴极真空电弧 ; 光学性能 中图分类号 : O46 12 　　文献标识码 : A 　　　文章编号 : (2006) μ 时间内, 固定脉冲频率 1 500 Hz , 脉宽25 s , 从 0～2 000 V 引　言 改变直流脉冲衬底负偏压 , 获得一组相同膜厚的非晶金刚石 薄膜试样 。利用机械引弧机构每隔 15 s 定时触发电弧 , 确保 ( 　　与氢化非晶碳 hydro genat ed amorp hou s carbon , 缩写为 高纯石墨阴极的靶面平整和电弧的持续稳定燃烧 。所有试验 α ) ( C : H 相 比, 非晶金刚石 amorp hou s diamond 或 t et rahe 均采用相同的扫描波形 , 保证在直径 250 mm 的沉积区域内 α ) dral amorp hou s carbon 缩写为 D 或 t aC 具有更好的光热 稳定性和更高的力学 、光学和电学等性能指标 ; 与金刚石膜 膜厚均匀 。沉积前 , 用丙酮超声清洗 075 mm 厚 P ( 100) 的 相比 , 非晶金刚石膜具有结构和性能可调 、在室温下制备 、 单晶硅衬底 15 min , 并用 Kauf man 氩离子枪在相同的电源参 表面光滑和沉积面积大等优点 , 因此具备更高的实际应用价