反应磁控溅射TiNAlON纳米多层膜的微结构与显微硬度.pdfVIP

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2017-09-11 发布于江西
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第44卷第2期金属学玫 V01．44No．2 ACTA Feb．2008 2008年2月第193—197页 METALLURGICASINICA PP．193—197 反应磁控溅射TiN／A10N纳米多层膜的微结构与显微硬度木黄碧龙吴昕蔚孔明李戈扬 (上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室，上海200030) 摘要采用Ti靶和A1203靶在Ar、N2混合气氛中进行反应磁控溅射的方法，制备了一系列不同AlON层厚度的变对多层膜生长方式和显微硬度的影响．结果表明，在Ar，N2混合气氛中对A120a进行溅射，N原子会部分取代A1203中 0．6 GPa的超硬效应；进一步增加AloN nnl时被强制晶化并与TiN形成共格外延生长结构，多层膜显示出最高硬度达40．5 的层厚，其生长模式由晶态向非晶态转变，破坏了多层膜的共格外延生长结构，多层膜的硬度随之降低．关键词TiN／AION纳米多层膜，外延生长。非晶晶化，显微硬度，反应磁控溅射中图法分类号0484．4 文献标识码A 文章编号0412—1961(2008)02一0193—05 MICRoSTRUCTURESANDMICRo—HARDNESSoF NANoMuI用ILAYERssYNTHEsIzED TiN／A10N BYREACTIVEMAGNETRoNSPUTTERING HUANG Xinwei，KONG Bilong，ⅣU Ming，LIGeyang State ofMetalMatrix 200030 KeyLaboratory Composites，ShanghaiJiaotongUniversity,Shanghai Correspondent：LIGeyang，professor,Tel：(oeU6293e106，E-maihgyli@sjtu．edu．en NationalNaturalScienceFoundation Supportedby of China(No received revisedform2007-09-24 Manuscript2007-06--14，in to a of in ABSTRACTTiand areused series A1203targets prepare TiN／A10Nnanomultilayers the mixtureofArand withreactive method．Theformationconditions gas N2 magnetronsputtering ofAlON effectsof ofAloNonmicrostructuresandmechanical ofthe andthe thickness properties in- areevaluatedandcharacterizedEDS．XRD，HRTEMandnanoindentation．The