扫描电镜研究分子筛形貌中制样方法及试验条件对图像质量的影响.pdfVIP

维普资讯 扫描电镜研究分子筛形貌中制样方法 及试验条件对图像质量的影响 黄文氢 ， 张颖 张友稳 刘莲英 杨万泰 (北京化工大学材料科学与工程学院 北京 100029) (中国石油化工股份有限公司北京化X-研究院 北京 100013) 摘 要 电子显微镜观察分子筛形貌及结构是分子筛表征中最直观有效的方法。借助透射电镜 (TEM)可以看 到分子筛孔道的排列状况，扫描电镜 (SEM)观察可以直观检测分子筛颗粒形貌或晶粒晶貌。本文着重研究了MCM一 41分子筛制样方法及测试条件对扫描电镜图像质量的影响。在制备不同应用 目的分子筛样品过程中，要根据不同条 件设计制备方法 ，设置最佳 的试验条件才能获取质量好的扫描 电镜 图像 。 关键词 扫描 电镜 ；图像质量；制样方法；试验条件；MCM一41 中图分类号 Q一334 SEM inM olecularSieveM orphologyResearch--TheEffectonPhotograph QualitybySamplePreparationandApparatusParameterSettings HuangW enqing’ ZhangYing ，ZhangYouwen’Liu Lianying’ YangWantai’ ． ， ， (CollegeofMaterialScienceandTechnology，BeijingUniversityofChemicalTechnoloyg，Beijing，100029，China) (BeijingResearchInstituteofChemicalIndustry，SINOPEC，Beijing，100013 ，China) Abstract ElectricMicroscopeObservation isthedirectway inmolecularsievescharacterreserach．TEM showsporesandregulararray，na dSEM directlyshowsparticlemorphology．Inthepresentwork，SEM photograph qualitieswerefocusedonbyusingvarioussampleprepraationmethodsandbysettingoptimum testpraametersin MCM 一41study．Toobservegoodpictures，itisveryimportanttochoosethebestsamplepreparationmethodsna d tosetoptimum apparatuspraametersin thetest、 Keywords SEM ；photographquality；samplepreparationmethod；apparatusparametersettings；MCM 一41 1 引 言 2 试验部分 电镜 (EM)观察分子筛形貌及结构是 M41S分子 2．1仪器及材料 筛表征的最直观有效的方法。借助透射 电镜 (TEM) 高真空离子溅射镀膜机 ：型号：SputterCoating 可以看到分子筛孔道的排列状况，扫描电镜(SEM)观 SCD005，芬兰BAL—TEC公司生产。 察可以直观检测分子筛颗粒形貌或晶粒晶貌 ¨ J。 扫描 电镜：型号：XL一30型场发射环境扫描 电 近几年来，