电子束物理气相沉积中的非平衡蒸气射流输运模型.pdfVIP

LHD 2011 年度夏季学术研讨会 395 电子束物理气相沉积中的 非平衡蒸气射流输运模型 李帅辉，樊菁，舒勇华 （中国科学院力学研究所高温气体动力学国家重点实验室 （筹），北京100190） 摘 要 电子束物理气相沉积（EBPVD ）是现代功能薄膜制备的重要方法之一，本文对EBPVD 中蒸 气粒子的非平衡输运模型研究进展进行了综述。首先，对工程中广泛应用的自由分子流假设的适用 范围进行了分析，指出了自由分子流假设失效的判别准则。当蒸发速率增大，自由分子流假设不再 成立时，目前最有力的跨流域分析工具是直接模拟 Monte Carlo （DSMC ）方法，因此第二个关键问 题是如何确定金属蒸气粒子的碰撞参数。再者，完成了多源蒸发大面积钇钛薄膜中三维低密度非平 衡射流的 DSMC 模拟，及薄膜检测结果和多种测量数据的对比。最后，针对多源 EBPVD ，给出了 一个可以制备大面积多组分均匀薄膜的优化方案。 关键词 电子束物理气相沉积（EBPVD ），非平衡蒸气粒子输运模型，自由分子流假设失效判据， 金属蒸气粒子VHS 模型参数，直接模拟Monte Carlo （DSMC ）方法，大面积均匀薄膜制备工艺 余弦律直观简单，但对于实际工艺中较大 引 言 [4] q 蒸发率的观测发现 ， 往往近似正比于 s n [5] 电子束物理气相沉积（electron-beam cos  ，这里n 1 。Powell 等 分析表明，指 n physical vapor deposition, EBPVD ）由于具有适 数 的具体值依赖于蒸气源表面的的 Knudsen 数（ ）。由动理论可知，n 1 的本质原因 合于高纯、难熔物质的蒸发，可实现多组分薄 Kne 是蒸发源表面 较小，蒸气粒子脱离蒸发源 膜共蒸发或多层薄膜连续蒸发沉积等优点，是 Kne 现代高性能薄膜制备的主要方法之一。EBPVD 表面后频繁碰撞，不再按照直线轨迹在真空中 薄膜制备中蒸气粒子输运包括三个过程，即高 运动，这是一个典型的跨流域流动。 能电子束轰击蒸发材料表面产生蒸气粒子、真 空室内蒸气粒子的输运和蒸气粒子在基片表面 的凝聚，建立粒子输运过程与 EBPVD 工艺条 [1] 件的定量关系是薄膜制备的关键问题 。本文 主要研究蒸气粒子在真空中的输运过程。 如图 1 所示，工程上常用的蒸气粒子输运 模型是以自由分子流假设为理论基础的余弦律 [2,3] ，即忽略粒子在运动过程中的相互碰撞，蒸 发源表面发射出来的蒸气粒子沿直线路径飞向 基片，故任一基片面元的粒子通量 图1 面蒸发源示意图 A coscos qs r2 qe ， (1) 对于跨流域流动，目前最有力的分析工具