6高线密度X射线透射光栅的制作工艺.pdfVIP

维普资讯 第 28卷 第 12期 半 导 体 学 报 VO1．28 NO．12 2007年 12月 CHINESEJOURNAL OF SEM ICONDUCTORS Dec．，2007 高线密度X射线透射光栅的制作工艺* 朱效立 马 杰 曹磊峰 杨家敏 谢常青 刘 明 陈宝钦 牛洁斌 张庆钊 姜 骥 赵 珉 叶甜春 (1中国科学院微电子研究所 纳米 加工与新器件集成技术实验室 ，北京 100029) (2中国工程物理研究院激光聚变中心 ，绵 阳 621900) 摘要 ：采用电子束光刻、x射线光刻和微 电镀技术 ，成功制作 了面积为 10mm×0．5mm，周期为 500nm，占空 比为 1：1．金吸收体厚度为 430nm 的可用于 x射线衍射的大面积透射光栅 ．首先利用电子束光刻和微 电镀技术制备基 于镂空薄膜结构的x射线光刻掩模，