TiO2／MgO双层薄膜的生长及应力研究.pdfVIP

V01．40 第40卷 增刊 电子科技大学学报 Suppl． ofElectronic ofChina Joumal Scienceand 2011年4月 ofUniversity Technology Apr．2011 Tie2／MgO双层薄膜的生长及应力研究 刘莹莹，朱 俊，雷华伟，唐正瑜，罗文博，张鹰 (电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室成都610054) 的外延生长问题上具有典型性与代表性．为氧化物缓冲层生长的应变行为及控制提供了一种行之有效的方案，也为通过缓冲 层应力调控诱导多元氧化物功能薄膜外延生长奠定基础． 关键词LMBE；MgO薄膜；RHEED；Tie2薄膜；应力释放 中图分类号0484．1 文献标识码A d