化学法制备的HfO2薄膜的激光损伤阈值研究.pdfVIP

! 第# 卷! 第$ 期 强 激 光 与 粒 子 束 %’( # ，)( $! ! *++, 年$ 月 -./- 01234 56734 6)8 0649.:53 ;367 =( ，*++,! 文章编号：! ++?@$**（*++, ）+$?+@+$?+A 化学法制备的!#$ 薄膜的激光损伤阈值研究! 沈! 军，! 罗爱云，! 吴广明，! 林雪晶，! 谢志勇，! 吴晓娴，! 刘春泽 （同济大学 波耳固体物理研究所，上海*+++#* ） ! ! 摘! 要：! 采用化学法制备了-B1 介质膜，研究了热处理、紫外辐照以及6’ 1 复合对-B1 介质膜激光 * * $ * 损伤阈值的影响。采用红外光谱（ C9.4 ）和D 射线衍射仪对薄膜进行了表征，并用输出波长为( +E@ !F 、脉宽 为+ GH 的电光调! 激光系统测试薄膜的激光损伤阈值。实验结果表明：采用A+ I 左右的温度对薄膜进行 热处理可以提高薄膜的激光损伤阈值，所获得的薄膜的激光损伤阈值高达@* ( $* JK LF* ，比热处理前的激光损 伤阈值提高了M*N ；无机材料6’ 1 的适量添加能够提高薄膜的激光损伤阈值，其中-B1 与6’ 1 的最佳质 * $ * * $ 量配比约为#A O A ；另外，对薄膜进行适当的紫外辐照也可改善-B1 薄膜以及-B1 ?6’ 1 复合薄膜的抗激光 * * * $ 损伤性能。紫外辐照对提高-B1 ?6’ 1 复合薄膜的激光损伤阈值效果尤为显著，辐照@+ FPG 后的激光损伤阈 * * $ 值达到@@ ( $$ JK LF* ，比紫外辐照前的激光损伤阈值提高了#+N 。 ! ! 关键词：! -B1 薄膜；! 热处理；! 紫外辐照；! -B1 ?6’ 1 复合薄膜；! 激光损伤阈值 * * * $ ! ! 中图分类号：! 1@M@ ( @! ! ! ! 文献标识码：! 6 ! ! 氧化铪（-B1* ）是一种常见的薄膜材料，具有从紫外（Q% ）到红外（.4 ）较宽的透明区域（+ ( ** R * !F ），同 ［?@ ］ 时-B1* 还具有较高的折射系数和较高的抗激光损伤阈值，可用于强激光领域中 。在高功率激光薄膜的设 计和制备中，人们常常用-B1* 和低折射率的二氧化硅（7P1* ）组合来制备高反膜、增透膜、偏振膜和滤光片薄膜 等。 ! ! 在强激光系统中，薄膜光学元件抗激光损伤能力是一个十分重要的指标，其阈值大小直接反映了元件的质 量高低，因此，如何提高-B1* 薄膜的激光损伤阈值是研究工作的重点之一。目前，