Si、Ni、Ti掺杂类金刚石薄膜制备及摩擦学性能及研究.pdfVIP

Preparation of Si，Ni，Ti Doped Diamond-like Carbon Films and Investigation of Their Tribological Behavior A Dissertation Submitted to the Graduate School of Henan University in Partial Fulfillment of the Requirements for the Degree of Master of Science By Niu Fang Supervisor: Prof. Zhang Pingyu June, 2013 摘 要 采用直流电源，以二甲亚砜-纳米颗粒添加剂混合溶液作为电解液，低温常压条件 下，在(100)单晶Si 片上沉积了类金刚石（DLC）薄膜。通过扫描电镜、原子力显微镜、 拉曼光谱、X 射线光电子能谱仪、透射电镜分析薄膜的形貌和结构，并测定了薄膜的润 湿性和摩擦学性能。本论文主要研究内容和结果如下： （1）电化学方法沉积二氧化硅掺杂类金刚石复合薄膜 选择二甲亚砜为碳源，纳米二氧化硅为掺杂剂，在 70℃，150V 电压条件下，通过 液相电化学沉积技术在阴极得到硅掺杂的类金刚石薄膜。分别采用 X 射线光电子能谱 仪、原子力显微镜和拉曼散射光谱仪对薄膜的形貌、组成和结构进行了表征，考察了薄 膜的浸润性摩擦学性能，并且研究了反应时间对薄膜的影响。结果显示硅主要以氧化态 的形式较为均匀地存在于碳膜中。掺杂前后的薄膜对比发现，硅掺杂使得薄膜中的 sp2 杂化碳含量增多，并且比纯碳膜具有更优异的摩擦学性能。随着反应时间的延长，薄膜 外部形貌和内部组分均发生变化，体现在薄膜表面粗糙度的变化以及薄膜由亲水性转变 为疏水性。 （2 ）电化学方法沉积镍掺杂类金刚石复合薄膜 选择二甲亚砜为碳源，表面修饰的纳米镍颗粒为掺杂剂，在 60℃，150V 电压条件 下，通过液相电化学沉积技术在阴极得到镍掺杂的类金刚石薄膜。TEM 结果表明薄膜 较为致密均匀，零价的镍纳米颗粒能够稳定且均匀地分散在非晶碳网络中。温和条件下 制备的镍掺杂复合薄膜是典型的含氢类金刚石薄膜，且拉曼表征显示比同样的沉积条件 下制备的纯DLC 薄膜含有更多的 sp2 杂化碳原子。通过一系列摩擦学测试显示，表面 修饰碳链的镍纳米颗粒的引入也使得薄膜具有了更好的抗磨耐磨性。 （3 ）电化学方法沉积二氧化钛掺杂类金刚石复合薄膜 选择二甲亚砜为碳源，表面修饰的纳米二氧化钛为掺杂剂，在60℃，150V 电压条 件下，通过液相电化学沉积技术在阴极得到钛掺杂的类金刚石薄膜。利用透射电子显微 镜对其形貌进行了考察，结果表明二氧化钛纳米颗粒能够稳定且均匀地分散在非晶碳基 质中。另外，通过X 射线光电子能谱、红外光谱和拉曼光谱对薄膜的组成及结构进行了 分析，发现这种复合薄膜是一种典型的含氢类金刚石薄膜，并且引入二氧化钛后对薄膜 I 中sp2 碳原子的形成有促进作用。 关键词：掺杂类金刚石薄膜，液相沉积，纳米颗粒，摩擦磨损性能 II Abstract Amorphous diamond-like carbon films were deposited on silicon (100) substrates at relatively low voltage ( 150V) and low temperature (60-70 ℃),