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以硅纳米孔柱阵列为模板制备金纳米薄膜.pdf
第38卷 第 6期 人 工 晶 体 学 报 V0l_38 No.6
2009年 12月 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS December.2009
以硅纳米孑L柱阵列为模板制备金纳米薄膜
富笑男 ,符建华 ,李 坤 ,罗艳伟 ,李新建
(1.河南工业大学理学院,郑州 450001;2.郑州大学物理系材料物理教育部重点实验室,郑州450052)
摘要:采用浸渍技术 ,分别以新鲜和老化两组硅纳米孔柱阵列 (Si—NPA)衬底为模板制备了不同形貌特征的Au/Si—
NPA。结果表明:造成两组衬底上形成的Au/Si—NPA形貌上的巨大差异主要是由于两组Si—NPA衬底表面氧含量的
分布不同所致。进一步分析发现,Si—NPA在Au/Si—NPA的形成过程中既起到了模板作用,又起到了还原的双重作
用。由于Si-NPA具有规则的阵列结构,从而使得金在Si—NPA表面上的沉积速率产生选择性,最终可以形成准周期
的、规则的金纳米复合薄膜。
关键词:硅纳米孔柱阵列 ;模板;选择沉积;金纳米复合薄膜
中图分类号:0484 文献标识码:A 文章编号:1000—985X(2009)06—1467-05
Preparation ofAuNanometerThinFilm Using
SiliconNanoporousArrayasTemplate
FUXiao—nan,FUJian—hua,LIKun,LUOran.wei,LIXin-fian
(1.CollegeofScience,HenanUniversityofTechnology,Zhengzhou450001,China;
2.KeyLaboratoryofMaterialsPhysics,MinistryofEducation,DepartmentofPhysics,ZhengzhouUniversity,Zhengzhou450052,China)
(Received19January2009,accepted25May2009)
Abstract:The Au/Si—NPA samples with differentmorphologies were fabricated experimentally by
immersiontechniqueusingfreshandagedsiliconnanoporouspillararray(si—NPA)substratesastemplate.
Theresultsshow thatthedifferencesbetweenmoprhologiesoftheAu/Si·NPAswhichwerepreparedO13two
kindsofsubstratesareduetothedifferencesofoxygenquantitiesdistributingonthesurfaceofthesi—NPA
substrates.Th efurtherstudiesshow thatthesi—NPA presenttwofunctionalitiesduringfabricatingofthe
Au/Si—NPA.Oneisasthereductantandanotherthetemplate.Th eSi—NPA regulra arraystructureleadsto
thevelocitydependenceofAudepositiononthelocal geometricalfeaturesoftheSi—NPA surface.Finally,
thequasi—periodical,reug larAunanocompositethinfilm hasbeenformed.
Keywords:siliconnano
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