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ICP-MS 技术简报#7 ICP-MS 分析含氯化物基体的样品中的As 摘要： 中的全部可以测定的元素。这些优点使 ICP-MS 在许 多领域被广泛应用，更是许多设备先进的痕量金属分 自从 20 世纪 80 年代中期发展 ICP-MS 技术以 析实验室必不可缺的。 来，在某些应用或者说对某些特定的元素的分析 尽管 ICP-MS 技术如此强大，但任何分析技术都会有 就被视为难以用 ICP-MS 术分析或无法解决的 一定的局限性。对于 ICP-MS 分析来说，溶解的固体 问题。 含量必须小心加以控制，一般不能高于 0.2 % ，以避 免基体沉积到质谱仪的接口处。与 ICP-OES 相比， 测定含氯化物基体的样品中痕量 As 就是这种情 ICP-MS 在测定高浓度范围的元素（100 mg/L ）的能 力还是有限的，尽管最新的仪器采用了新检测器技术 况之一，有人认为这是 ICP-MS 技术固有的局限 解决高浓度测量问题。其次，ICP-MS 的优势之一，即 性。实际上，在改进一些仪器设计参数和操作条 质谱简单性，也会由于高含盐量的引进而引起许多难 以避免的质谱重叠。 件后，氯化物基体 （百分之几的 Cl）中几个μ g/L 的As 是可以成功测定的。 质谱重叠问题在最初发表的 ICP-MS 文章中就有讨 论。甚至早在 1975 年，在 Gray[1] 的一篇被许多人认 引言 为是 ICP-MS 发展的启发性文章，即DCP-MS 中，就 于测定各种样品中的痕量金属元素来说 ICP-MS 是 提到了在质谱中存在着未能分解的分子粒子。DCP- 一种非常强有力的技术。实际上，高灵敏度和低背景 MS 的主要局限性 （难电离元素的低灵敏度和严重的基 体效应）与它的低等离子体温度 （大约 5000 K ）有 信号相结合可以得到很低的检出限 （多数情况下为 ICP 最 热 部分 ~ 样品通道 ~ 6700K 样品停留时间为几个毫秒 8000K 在采样锥口处样品以正离子形态 存在 + 采样锥口处正离子浓度最高且多 原子离子干扰浓度最低 气溶胶干燥 粒子蒸发与解离 解离成单原子且电离 1 样品气溶胶通过等离子体的过程简 关，在现代的ICP-MS 仪器中也存在这个问题。 ng/L ），使得 ICP-MS 几乎可以测定所有的元素。快 速