软X射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究.pdfVIP

维普资讯 20[】1年 微 细 加 工 技 术 № 3 兰 型 M icrofabrlcatE~m T~hno1％o 200 文章缩号 ：1003—8213(2001)03—0O22—04 软 X射线透射光栅支撑结构 的制作工艺研究 徐向东，洪义瞎 ，田扬超 ．霍 同林．周洪军 ，陶晓明。傅绍军 (中国科学技木大学国家同步辐射实验室 ，合肥 230029) 摘要：在简速软 x射线 自支撑透射光栅制作工艺的基础上，重．最研 究支撑结构制作 中 的紫外光刻和电镳两步工艺。紫外光刹中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底 或起保护作用的光刻胶面积减小、厚度战薄；比较 了两个不同电链条件下的电镀实验 结果，姑果表明低 的温度和电流密度 (40℃、1．5mA／cm2)下 的镳膜致密、光滑，应力 小，对光栅姑构无任何影响；高的温度和 电流密度 (47℃、5．6m^ )下的镀膜相对 粗糙、应力大，造成光栅线条的扭曲、井拢 ，甚至拉断光栅线条。 关键词 ：全息光刻 ；透射光栅 ；微电镀 中图分类号 ：Tt-r／44．15；TQ15318 文献标识码 ：A 1 引言 撑透射光栅的最高线密度为 5000l／ram，国 内为 1000l／ram。在全息一离子束制作透射 金透射光栅是极紫外和软 x射 线波段 光栅的有关文献 中，对全息曝光 、显影、离子 中重要 的色散元件之一。 自支撑透射光栅的 柬刻蚀等工艺讨论较多，而对有关支撑结构 研制成功…，大大提高其衍射效率 ，使之得 制作工艺讨论少见。本文主要报道我们制作 以更广泛地应用于激光惯性约束核聚变等离 2000l／ram透射光栅支撑结构 中遇到 的问 子体诊断L 、x射线激光实验诊断L3J和 x射 题及实验结果。 线天体物理学_4等领域 的光谱测量。 自支 撑透射光栅 的特点是无衬底即光栅线条间是 2 实验 镂空 的，其 目的是避免对软 x射线 的吸收； 光栅线条 由足够强度 的、较大周期的网格结 2．1 自支撑透射光栅制备 构支撑 (又称为加强筋)，避免细的光栅线条 软 x射线 自支撑透射光栅 的制作涉及 扭曲、并拢等破坏光栅原有周期结构现象(严 到全息光刻、离子束刻蚀和微 电镀等多步工 重时光栅完全不能使用)。支撑结构可导致 艺过程 ，如图 1所示。其主要制作工艺简述 光栅通量损失 25～50％，但该支撑保证了光 如下 ： 栅结构的完整性。 目前 ，国际上实用的 自支 a在经过抛光和清洁处理 的玻璃基片上 收稿 日期 ：2000—10—24 作者简介 ：椽 向东 (1963一)，男，安徽庐江人 ，理学硕士，高级工程师，主要研究同步辐射真空紫外及 x射 线光学技术和 x射线显擞术；洪义麟 (1963-)，男，安徽合肥市人 ，高级工程师 ，主要从事深度 x射线光捌掩 模，x射线波段衍射元件，二元光学元件、超擞细加工等研究；田扬超 (1963一)，男，安徽金豢人，理学博士，研究 员，主要研究同步辐射 x射线光刻、LIGA技木 。 维普资讯 徐 向东等 ：软 x射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究 依次制备上金膜和光刻胶层 ，金膜和光刻胶 d采用 RⅢ 将刻蚀后残留在金的光栅上 层 的厚度 根 据 光栅 线密度来 决定。对 于