硅超大规模集成电路工艺技术 工艺集成.pdfVIP

微电子工艺技术 第十二讲 工艺集成 钱 鹤 清华大学微纳电子系 Cross-Section of CMOS Technology CMOS n-well Technology 现代集成电路的结构演进 High k, 金属栅和应变沟道 16nm及以下将放弃一直沿用的“平面器件结构”， 而采用FinFET器件结构 示意图 S G D D G S + + p p n+ n+ STI n 阱 p 阱 p 这是典型的CMOS器件剖面结构，不