多弧离子镀制备TiN%2fNi纳米复合超硬膜的研究.pdfVIP

机械装备结构材料与表面技术研讨会 577 多弧离子镀制备TiN／，Ni纳米复合超硬膜的研究 郑国龙 王从曾 穆静静 黄建斌 北京工业大学材料科学与工程学院北京 100022 摘要：采用多弧离子镀技术，通过改变Ni靶电流和开启的时间，在高速钢基体上沉积出不同Ni含量的nN／Ni复合膜涂层， 膜的超硬机理。结果表明：随着Ni含量的增加，晶粒逐渐细化并达到纳米级尺寸，膜层硬度与Ni的含量密切相关，当Ni 含量达到1．4at％时，硬度最高，达到47GPa。 关键词：多弧离子镀mN，Ni纳米复合膜纳米晶超高硬度 O 引言 新型超硬薄膜材料TiN具有优异的物理、化学性能及广阔的应用前景而引起人们的普遍关注。大量的 研究表明TiN是一种容易晶化的硬质涂层材料，具有高熔点、强抗蚀性、高稳定性的优点，是目前被研究最 多的薄膜材料之一【l吲。自70年代以来，科学家纷纷采用各种方法合成T烈薄膜，其中利用物理气相沉积 (PVD)在高速切削刀具上沉积TiN涂层，可显著提高其机械强度与寿命，引人瞩目14J。然而随着推广应用的 深入和镀膜技术的刁i断发展，人们逐渐认识到TiN涂层的不足之处，其硬度、高温抗氧化性、膜基结合力、 空隙率均还不够理想。为此，有必要通过复合化和纳米化等来进一步改善T烈薄膜的性能。本文正是采用 硬质涂层制备技术中应用最为广泛的多弧离子镀技术，制各了多层TiN小i纳米复合涂层，并对涂层的形貌、 结构和性能进行了研究。以期为多弧离子沉积三元纳米复合膜技术的推广应用和生产提供实际依据。 1试样制备和试验方法 mm×4 试验选用的基体为w18Cr4V高速钢，试样尺寸为015mm，经淬火+三次回火后硬度达到HRC 63，在镀膜前，基体经打磨、抛光，用丙酮超声波清洗25Ⅱlin，清水清洗，乙醇脱水，烘干后作为镀膜样 磁屏蔽。 V负偏压对样品进 试验中，当镀膜室真空抽到4×10‘3Pa时，通入Ar2气，待气压达2～10Pa时加900 ITlin；接着在镀膜负偏压下镀制纯Ti，时间为5nlin，Ti靶电流50A：然后，关闭 行辉光清洗，时间为10 Pa时调整工艺参数镀制T烈／Ni膜：负偏压200V，基体温度300℃， 衄气通入高纯N2气，待真空度达0-3 其中Ti靶一直开启，弧电流密度为30～mm2，Ni靶每间隔3nlin开启10s，弧电流密度为80A，mm2，镀 膜时间为90nlin。 使用JEoLJSM一6500F型场发射扫描电子显微镜(SEM)观察膜层的断口形貌，利用PicoPJus型原子力 显微镜(AFM)观察膜层的三维形貌，用D8 向；用FM．700型显微硬度计测试TiN／Ni涂层的硬度。 2试验结果与分析 2．1 TiN／Ni复合膜的三维形貌 要形成微小的纳米晶，薄膜的形核速度要足够快，而且不能快速长大，否则即使在初期形成的是纳米 晶粒，但在一定能量条件下晶粒长大了，还是制备不出纳米薄膜。图1是TiN／Ni复合膜表面的原子力显微 镜三维形貌。图中颜色较浅的部分是凸起的，生长较快：颜色较深的部分是凹陷的，生长较慢。一快一慢 混合生长，相互制约薄膜的晶粒的尺寸细小，已达到纳米尺度。 国家自然科学基金(5037枷3)。北京市自然科学基金(2032003)资助项目。 20帆4十目机械I程学会≈2％”肃省学$4舍女集 AFM H ■N刷-缸☆K^m2*#‰ 嘲2 nN爪-复口嗟横所■的sRM*＆分析 2．2 TjN刖i复台膜的横断面形貌 倒2、3分别为“N小1复合膜断口的sEM形貌图和能谱图。如罔所示，膜层厚度约为4um。膜层断 面擎多层状，每层的自度约为100—150…而此断血的每麒X包台几联晶粒，因此品粒尺寸应达到了纳 米级，蟛成了纳米-％往T∞膜Ⅱ长过柑中N1靶的蝴歇玑静!．住NI作为凝聚而偏聚在生的nN相的晶粒 面剧田，嘶且这种二维覆盖层托’t长的品粒表面和品界问不断形成