直流溅射法制备纳米金工艺及形成机制_窦娜娜.pdfVIP

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2017-09-01 发布于安徽
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38 8 Vol. 38 No. 8 第卷第期 2013 年 8 月 HEAT TＲEATMENT OF METALS August 2013 直流溅射法制备纳米金的工艺及形成机制 1 1 2 1 ，，，窦娜娜王涵张蓓宋西平 (1．， 100083 ;2．， 100083) 北京科技大学新金属国家重点实验室北京北京科技大学数理学院物理系北京 : ，，、、摘要利用直流溅射仪制备了纳米金薄膜并通过随后的退火处理得到了纳米金颗粒研究了不同衬底溅射时间退火温度及时间。，，对纳米金颗粒形成的影响规律结果表明衬底对纳米金的形成有显著的影响形核质点多的载玻片比单晶硅片更容易形成细小 ; ，， ; 30 s 、400 ℃ 60 min 8 ～的纳米金颗粒溅射时间越短退火温度愈高纳米金薄膜愈容易球化在溅射保温的条件下得到了直径为 12 nm 。、。的金颗粒根据金的表面能表面张力以及金原子的扩散等因素讨论了纳米金颗粒的形成机制 : ; ; 关键词溅射工艺纳米金形成机制 :TG111 :A :0254-6051 (2013) 中图分类号文献标志码文章编号 08-0014-07 Process and formation mechanism of nano-gold prepared by DC sputtering Dou Nana1 ，Wang Han1 ，Zhang Bei2 ，Song Xiping1 (1． State Key Laboratory for Advanced Metals and Materials，University of Science and Technology Beijing ，Beijing 100083 ，China ; 2． Department of Physics ，School of Mathematics and Physics ，University of Science and Technology Beijing ，Beijing 100083 ，China) Abstract :The gold nanoparticles were prepared by using DC sputtering and annealing ，and the effects of substrate types ，sp