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两步氧化法ZnO薄膜光催化特性重复利用研究+ 邵乐喜”，张军1t一，谢毅柱比，付玉军2 (1湛江师范学院物理科学与技术学院．湛江 524048：2兰州大学物理科学与技术学院，兰州 730000) 摘要：本文采用热蒸发法在玻璃衬底上沉积Zn膜，然后在氧气中通过两步热氧化制备ZnO薄膜。利用X 射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SFJ,!)和紫外透过光谱等表征技术，研究了氧化温度对ZnO薄膜结晶质量和光 学性能的影响。研究结果表明，两步氧化法在400℃下氧化1h后的样品中除含有ZnO成份外，还有少量金属 Zn存在：525℃下氧化lh可以制备出疏松多孔的ZnO薄膜，其在紫外光和可见光范围内的透过率可达85％．通 过太阳光和紫外光(254nm)催化降解苯酚实验，发现两步氧化法制备的ZnO薄膜具有良好的光催化特性：太阳 光照lOh后苯酚降解率达到56％，紫外灯下苯酚降解率高达86％。此外，ZnO薄膜的光催化重复利用实验表明， 经过Hz02溶液清洗干燥处理后ZnO薄膜可以基本恢复其光催化能力，此特性为ZnO薄膜的重复利用提供了很好 的实验依据． 关键词：ZnO薄膜：两步热氧化法：热蒸发：光催化。 1．引言 环境污染已经成为制约人类社会和谐发展的一个重要因素，减少污染物的排放，加强污染 物的降污处理是解决环境污染问题的关键手段。在人类的生产生活中排放的污水中含有各种对 环境有害的物质，特别是其中的有机污染物对人体有直接或间接的毒害作用，降解有机污染物 是一个刻不容缓的问题。人们已经研究出多种降解污水中有机污染物的方法。其中光催化降解 技术因为其各种优点成为研究的热点。光催化降解是指有机污染物在光照下，通过催化剂实现 分解[1]，催化剂的选择是这种工艺的关键。ZnO作为一种六方纤锌矿结构的II一Ⅵ族宽禁带半 导体材料，室温禁带宽度约3．37eV，具有优异的结构、光学和电学特性。在紫外光照射下，ZnO 可以产生电子一空穴对，在表面形成强的氧化一还原体系，对溶液中的有机物进行氧化降解。 因此，ZnO已经成为一种很有前途的廉价光催化材料[2，3]。对ZnO粉末的光催化性能的研究和 利用已经有了长足的发展，但是利用ZnO粉末来处理污染物中的污染有机物时，催化剂无法回 收，造成材料浪费和二次污染[2_5]。选择简易的制备工艺，在廉价衬底上制备ZnO薄膜作为光 催化材料可以有效解决这一难题。对比其他宽带隙材料ZnO，薄膜材料较易制备，现有的薄膜 制备方法如磁控溅射，化学气相沉积，激光脉冲沉积法，分子束外延法，喷雾热解法，溶胶凝 胶法，热氧化金属锌膜法等都可以制备ZnO薄膜[6-13]。其中热氧化金属锌膜法因为其工艺设 备简单，尤其适合大面积工业化的生长和应用。特别是光催化剂对薄膜的结构质量要求较低， 热氧化金属锌膜法成为可选择的最佳制备工艺。目前有很多研究者开展了利用热氧化金属锌膜 法制各ZnO薄膜的研究工作[14，15]。由于金属锌的熔点较低(常压下为419℃)，在薄膜状态 下，如果氧化温度高于其熔点，氧化过程在液态下进行，这样很难得到适用于光催化的疏松结 构的ZnO薄膜。本文通过改进氧化工艺有效克服了这个难题。 本实验采用热蒸发法在玻璃衬底上沉积Zn膜，然后在氧气中进行两步热氧化制备ZnO薄膜。 把氧化过程分为两步进行，先在较低温度下氧化Zn膜表面，然后提高氧化温度，这样可以有效 提高薄膜的孔隙率增强其光催化性能。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和透过光 谱等表征技术，研究了两步氧化过程中温度对ZnO薄膜的结晶质量和光学性能的影响。通过太 阳光和紫外光(254nm)催化降解苯酚实验来研究其光催化特性。此外，除以上工作外，本文还 进行了ZnO薄膜光降解的重复利用实验。 2．实验 本实验利用DM一300型镀膜机(北京仪器厂)在玻璃(5X5cm)衬底上蒸镀Zn膜。蒸 镀Zn膜之前，采用严格的化学清洗技术：首先在丙酮中超声波震荡lOmin以去除衬底上的油脂， ’通讯作者：邵乐喜教授，0759．3183260 shaglxmail@,163．com 17 然后以去离子水冲洗5min；接着在乙醇中超声波震荡10min以去除有机物，同样以去离子水冲洗 5min；此后用2％浓度的氢氟酸(HF)溶液浸泡30s，以去除衬底表面氧化物，最后再用去离子 水冲洗5min。 为了进一步去除衬底表面吸附的气体