TiO2薄膜性质研究与芯片式微分析系统.pdfVIP

Ti02薄膜性质研究与芯片式微分析系统 宗小林 杨 文 许艳军 王秀燕 汪大明 周 曼 英科新创(厦门)科技有限公司，厦门，361022 摘要TiO。可在光照条件下表面发生可逆的亲水性变化。在芯片式微分析系统的研发 和制备方面，材料表面的亲水特性的控制是影响器件性能的重要因素。改变材料表面亲水性 有多种方法，本文介绍了目前TiO。薄膜光致亲水性研究的成果，以及其他的改变表面亲水性 的方法。对TiO：薄膜光致亲水性在芯片式微分析系统上的应用的可能性进行了初步探讨。 关键词TiO：薄膜；光致亲水性；芯片式微分析系统 1997年Wang等发现了TiO：的光致亲水性，被空气中的氧所氧化；另一方面氧空位与空气中的 即当TiO：薄膜表面被光照射后润湿性得到很大改 水分子键合，最终在表面生成羟基官能团，形成化学 善。这种特性在理论研究上引起了很大的热潮，并 吸附水层。当隔离了紫外激发时发生相反的过程， 且在建筑材料、医用材料及车用玻璃等领域取得商 表面又恢复为憎水性状态(见公式1～3)E4,s]。 业化应用[1]。在芯片式微分析系统的研发和制备方 hv一旷+h+ (1) 3+ 面，材料表面的亲水特性是影响器件性能的重要因 厂+n仆·Ti (2) 素。改变材料表面亲水性有多种方法，本文根据目 4^++202一一02 (3) 前Tio。薄膜光致亲水性研究的成果，结合已有的 人们通过多种物理化学方法对Tio。表面光致 表面亲水性获得方法，对这种性质在芯片式微分析 亲水性进行了研究。水分子在TiO：表面的氧空位 系统上的应用的可能性进行初步探讨。 的分解和化学吸附是成立的，但是UV照射在TiO： 对于TiO：光致亲水性的产生，人们提出两种 表面生成氧空位的实验事实还不充分。目前可以明 可能的机理。一种是通过光氧化材料表面吸附的有 确的是UV辐照可使表面羟基基团密度增加，更详 机物，使表面变为亲水性；另一种是光辐照在材料表 细的物理化学过程还不确定。因此，对这一现象更 面引起羟基基团浓度的增高，使水分子在材料表面 深入、更明确的认识，还需大量的系统的实验研究。 更易于铺展[引。很多作者的结果证明，这种光致亲 事实上，上述的在UV照射下可产生表面亲水 水性是可逆的，这样有可能对材料表面的亲水性进 现象的材料不限于TiO：，还包括ZnO等其他金属 行调控。同时，相比较现有文献提出的用于芯片式 氧化物[6’7]。 微分析系统的表面改性方法，Ti0。有许多独特的优 2．表面亲水性控制在芯片式微分析系统中的 点，很值得人们对其在这一领域的应用予以关注和 应用 研究。 随着微电子工业的发展和微机械加工技术 1．TiO：材料光致亲水性机理研究 (MEMS)的El益成熟，科研及应用领域对诸多化 长期以来，对Tio：的研究十分活跃。因为这 学、生物指标的测试的小型化、集成化、便携化等要 种材料有很多独特的性质，可以被应用于诸如异相 求El益成为现实。生物芯片、微流控芯片等芯片式 催化、光催化、太阳能电池、气体敏感器件、光学镀 微分析系统的研究、开发及应用成为近年来这一领 膜、抗腐蚀镀膜等，不一而足【3]。 域工作的中心及亮点。 关于TiO：光致亲水性的研究，目前基本的立 材料表面的亲水性，对于芯片式微分析系统的 足点是：当不同晶体构型的TiO。材料吸收的光子 性能至关重要。一方面，作