激光驻波原子透镜像差分析.pdfVIP

　第 16 卷 　第 10 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 16 ,No. 10 　 　2004 年 10 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Oct. ,2004 　 ( ) 文章编号 : 　100124322 2004 1021233207 X 激光驻波原子透镜的像差分析 陈献忠, 　姚汉民 , 　陈旭南 , 　石建平 , 　张春梅 ( 中国科学院 光电技术研究所, 四川 成都 610209) 　　摘 　要 : 　用激光驻波构成的原子透镜对原子束实现 nm 量级的聚焦 , 由于原子束的速度扩散、束扩散和 原子的波动特性等因素的影响 ,原子透镜存在像差。建立了两种描述原子透镜的理论模型 ,用半经典模型分析 原子透镜的球差、色差及由原子束的发散角引起的像差 ,用量子模型分析原子透镜的衍射像差。模拟结果表明 原子束的发散角是产生像差的主要因素 ,衍射像差大于球差和色差。提出了优化实验参数、增加束掩模和利用 刻蚀技术三种改善原子光刻实验的方法。 　　关键词 : 　激光驻波场 ; 　原子透镜 ; 　像差分析 ; 　光刻技术 　　中图分类号 : 　O435. 2 ;TN305 　　　　文献标识码 : 　A 　　随着电路中器件尺寸的不断减小 ,光学光刻技术面临着严峻的挑战。目前出现的纳米光刻技术中 ,能突破 50nm 分辨率的方法还远未成熟 ,存在很多缺陷[1 ] 。原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用 ,近十 年来随着原子光学在理论和实验上的成熟而得到迅速发展。经过准直的钠、铝、铬等[2～5 ] 原子束在近共振激光 驻波场中聚焦并沉积在基底上 ,在实验上已得到 nm 量级的结构。 ( ) 　　原子的德布罗意波波长非常短 远小于 1nm ,并且原子是中性的 ,不像电子束、离子束那样受电荷的影响 , 因而具有潜在的高分辨力[2～6 ] 。原子光刻的基本原理是利用激光梯度场对原子的作用力对原子束进行操纵 , ( ) 改变原子束在传播过程中的密度分布 ,使原子按一定规律沉积在基底上 或使基底上的特殊膜层“曝光” 来获 得纳米图形。由于受原子束的纵向速度分布、束发散角、离聚焦轴心较远的原子受力太小及原子波动特性等因 素的影响 ,部分原子在聚焦时偏离理想聚焦点 ,形成原子透镜的像差 ,影响纳米结构的特征尺寸和对比度。 　　原子透镜的像差概念与光学中的像差概念具有本质的不同。在光学中用光学系统对光束进行调制 ,实际 光学系统的成像与近轴单色成像的结果并不完全相同 ,两者之间的偏差叫做像差。我们用激光驻波来对原子 束进行调制 ,平行原子束在理想的原子透镜中聚焦时 ,所有的原子都能到达同一位置 ,与此有偏差的成分都可 ( ) 以看作像差。对像差大小的评价主要是用纳米沉积结构的峰值半高宽 FWHM 来衡量的 ,该值越小成像质量 越高。 　　理论计算是用原子光刻进行纳米加工的重要组成部分 ,J . J . McClelland 等人[7 ,8 ] 用粒子光学方法分析了激 光驻波场的原子光学特性 ,M. K. Olsen 等人[9 ,10 ] 用量子理论分析了原子波函数在激光驻波场中的演化情况。 单纯用粒子光学方法或全量子理论来研究原子束在激光驻波场中的行为存在一些缺陷 ,前者虽可以用来分析 原子束质量的好坏对聚焦的影响