热丝化学气相沉积大面积金刚石膜温度场模拟计算.pdfVIP

第 37卷 第 l1期 仓 扁 学垃 Vo137 Noll 2001年 11月 ACTA METALLURGICA SINICA Nvoember200 1 热丝化学气相沉积大面积金刚石膜温度场的模拟计算 汪爱英 孙 超 王 冰 宫 骏 黄荣芳 闻立时 (中国科学院金属研究所，沈阳 110016) 摘 要 对热丝化学气相沉积(HFCVD)生长金刚石膜过程中影响衬底温度场的热丝几何参数及其他相关沉积参数进行了模 拟计算 结果表咀．通过优化参数，甩 80mmxS0lilin的热丝阵列可 获得 76mill~76iilm 面积的均匀衬底温度区．进一 步利用辅助热丝则可将均温区面积扩大到 100mm ×100rain．这些结果可 以为沉积高质量、太面积金刚石膜的工艺参数提供理 论依据 关键词 热丝化学沉积，金刚石膜，温度场，模拟计算 中图法分类号 0643l0242 文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2001)0l1—1217—06 SIM ULATIoNS oF TEM PERATURE FIELD IN HFCVD DI． AM oND FILM SW ITH LARGE AREA WANGAiyin9,SUNChao，WANGBing，GONG n，HUANGRongfang WENLishi InstituteofMetalResearchITheChineseAcademyofSciences，Shenyang 110016 Correspondent；WANG Aiying，Tel：(02455250，Fax：(og4 E-maib aywang~imr．ac．cn Ma．nuscriptreceived 20014 4—09．inrevised form 200107— 9 ABSTRACT NumericalsimulationswereusedtoinvestigatetheinfluenceofvariOUShotfilaments andotherdepositionparametersonsubstratetemperaturefieldwhich affectssignificantlythegrowth and qualityofdiamond filmsbvhot—filamentchemicalvapordeposition(HFCVD)．ItWaSfoundthatthe homogenousSUbstratetemperatureregion76mm ×76mm withthemaximum temperaturefluctuation nomorethan5％couldbeobtainedbva80mm×80mm filamentaryheateranditCOuldbeimproved 0100mm ×100mm underthe conditionofsupplementaryhotfilamentswithappropriateparameters． Allof thesetheoret_calresultsprvo idedthehasisforoptim izingthetechnologicalpraameterstodeposit highqualityand uniform diamondfilms overlrageraea KEY W ORDS HFCVD．dima ondfihns temperaturefield．simul~tion 金刚石薄膜兼有块体金刚石和薄膜材料的许多优异 率低是 目前HFCVD生长大面积金刚石膜尚未完全解决 性能，可以广泛的应用于力学、热学、光学、电子学等领 的两个重要问题． 域，长期以来备受国内外材料学者的重视 【 自80年代 热丝化学气相沉积金刚石膜的基本过程是：碳源气体 Matsumoto等人 lSl在低压下成功合成金刚石膜后，人们 和氢气的