EB—PVD制备YSZ涂层的氧空位和晶体学织构表征.pdfVIP

维普资讯 第 15卷 第6期 材 料 科 学 与 工 艺 V01．15 No．6 2007年 12月 MATERIALS SCIENCE TECHNOL0GY Dec．，2007 EB—PVD制备 YSZ涂层的氧空位 和晶体学织构表征 孟 彬，孙 跃，赫晓东，李明伟 (哈尔滨工业大学 复合材料与结构研究所 ，黑龙江 哈尔滨 150001，E-mail：hitmengbin@163．com) 摘 要：为探索电子束物理气相沉积(EB—PVD)制备YSZ涂层的显微组织结构特征，采用大功率EB—PVD 设备制备了20Ixm厚的YSZ涂层．分别利用x射线荧光光谱(XRF)和x射线衍射(XRD)技术分析了涂层 的化学成分和物相组成，并进一步采用x射线面探扫描技术对涂层的织构进行 了表征．分析结果表 明，涂层 材料具有典型的立方萤石型结构，且表现出择优取向特征，空气气氛中1273K退火前后XRD峰位的偏移以 及退火后O元素沿断面的浓度分布均表明制备过程中在涂层的晶格内形成了额外的氧空位． 关键词：电子束物理气相沉积；YSZ涂层；氧空位；织构表征；面探x射线衍射 中图分类号：TM619 文献标识码：A 文章编号：1005—0299(2007)06—0770—04 Oxygenvacancyandcrystallographictexturecharacterization ofYSZ coatingpreparedbyEB-PVD MENG Bin，SUN Yue，HE Xiao-dong，LIMing-wei (CenterforCompositeMaterials，HarbinInstituteofTechnology，Hrabin150001，China，E—mail：hitmengbin@163．com) Abstract：InordertoinvestigatethemicrostructurecharacteristicsofYSZcoatingspreparedbyelectronbeam physicalvapordeposition(EB-PVD)，theYSZcoatingwithathicknessof20IxmwasprepraedbyEB-PVDe- quipmentwithahighpower．Thechemical andphasecompositionsofcoatingswereanalyzedbyX-rayfluores- eeneespectromeⅡy(XRF)andX-raydiffraction(XRD)respectively．Furthermore，thetextureofthiscoating waschraacterizedbyX—raydiffractionwithanraeadetector．Analysisresultsdemonstratedthatthediffraction patternsshowedhtelinesofcubicfluorite-typestructureandanintensepreferredorientation．Boht theexcur- sionofXRD peakpositionsbeforeandafterannealingat1273K inairatmospherenadtheoxygenconcentra- tiondistributionalongthecross-sectionafternanealingat1273KbyEPMAmethod，showedthathteextraoxy- genvacancieswerefomr edduringtheprocessofEB—PVD． Keywords：EB—PVD；YSZcoating；oxygenvacancy；texturechraacterization；XRD withna areadetector ZrO 陶瓷以其优异的物理、化学性能而被广 性能而被广泛用于高温结构材料和热障涂层等领 泛用于耐火材料、氧敏感传感器和氧浓差电池等