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第 27 卷 第 8 期 半 导 体 学 报 Vol . 27 No . 8
2006 年 8 月 C H IN ES E J O U RN AL O F S EM I CON D U C TO RS Aug . ,2006
隧道结 TiOx 线宽度对隧穿现象的影响
1 1 , 1 2 3 3 1
张超艳 刘庆纲 李 敏 匡登峰 郭维廉 张世林 胡小唐
( 1 天津大学精密测试计量技术及仪器国家重点实验室 , 天津 300072)
(2 南开大学信息技术科学学院 光学研究所 , 天津 30007 1)
(3 天津大学电子信息工程学院 , 天津 300072)
摘要 : 在新型超高速光导开关的研究中 ,采用 A FM 阳极氧化加工方法 ,加工利用磁控溅射方法在 GaA s 衬底得到
的厚约 3nm 的钛膜 ,形成纳米级氧化钛线. 该 TiTiO Ti 形成 M IM 隧道结作为光导开关的基本结构 ,并且 TiO
x x
作为电子的能量势垒. 为说明氧化线的宽度对隧穿现象的影响 ,确定加工超高速光导开关时不引起隧穿的最窄线
宽及其实验条件 ,通过控制空气中的相对湿度 ,在加工速度 、氧气浓度和偏置电压不变的条件下 ,加工出宽度分别
为 156 ,342 和 469nm 的钛氧化线 ,测试了不同宽度氧化线隧道结的 IV 特性. 结果表明 ,在两电极的偏压为 6V
时不引起隧穿的前提下 ,可以在超高速光导开关两电极间加工最小宽度大约为 10nm 的氧化钛线.
关键词 : A FM 阳极氧化 ; 氧化钛线 ; 隧道结 ; 大气湿度 ; 超高速光导开关
PACC : 0779 ; 8160 ; 6048 G
中图分类号 : TN 16 文献标识码 : A 文章编号 : 02534 177 (2006)
电子刻蚀很难达到仅有几十纳米宽的氧化线. 原子
( ) ( )
1 引言 力显微镜 A FM 和扫描隧道显微镜 S TM 是进行
纳米电子器件加工和研究的有效方法[ 1~11 ] . 由于其
在新型超高速光导开关的研究中, 怎样提高光 所具有的原子级分辨力 , 不仅可以用来做表面成像 ,
导开关的响应速度是研究的主要方面. 一般可通过 而且可以加工几十甚至十几纳米宽的氧化线. 然而 ,
( )
三种途径来提高响应速度 : 1 选择和利用载流子寿 由于光导开关的基本结构 ———金属绝缘体金属
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