多能点X射线透射光栅的制作技术.pdfVIP

显徽、测量、徽细加工技术与 设 i＆ —誊， Microscoppee,MMeeaassuurreemmeennttMMicrofabr；cation Equipment , 多能点X射线透射光栅的制作技术 陈国太 ，谢常青 ，胡 昕 ，潘一呜 ， 朱效立 ，刘 明 ，吴秀龙 ，陈军宁 (1．中国科 学院 微电子研究所 纳米加工与新器件集成技术实验 室，北京 100029 2．安徽大学 电子科学与技术学院，合肥 230039；3．中国工程物理研究院 激光聚变研究中心，四川 绵 621900) 摘要 ：针对 x射线 自支撑透射光栅在多能点单色成像光栅谱仪 中的应用，采用电子束和光学匹 配曝光、微 电镀和 高密度等 离子体刻蚀技术，成功制备 了周期为 500nm、金 吸收体厚度为 350nm、占空比接近 1：1，满足三个能点成像 需求的 2000lp／mm X射线 自支撑透射光栅 。首 先利用电子束光刻和微 电镀技术制备金光栅 图形，然后采用紫外光刻和微电镀技术制作 自支撑 结 构 ，最‘后通过腐蚀体硅和感应耦合等离子体刻蚀聚酰亚胺完成 X射线 自支撑透射光栅的制作。 在电子束光刻中，采用几何校正和高反差 电子束抗蚀剂实现 了对纳米尺度光栅 图形的精确控制。 实验结果表 明，同一个器件分布的三块光栅 占空比合理，栅线平滑 ，可以满足单能点单色成像谱 仪 的要求。 关键词：X射线透射光栅；电子束曝光；邻近效应校正 ；微 电镀； 自支撑透射光栅 中图分类号 ：TN305．7 文献标识码 ：A 文章编号：1671—4776 (2010)0卜0045—05 FabricationofM ulti—EnergyPointX—Ray Transm ission Gratings ChenGuotai～，XieChangqing ，HuXin ，PanYim ing ， ZhuXiaoli，LiuMing，WuXiulong，ChenJunning (1．KeyLabofNano—FabricationandNovelDevicesIntegratedTechnology，InstituteofMicroelectronics， ChineseAcademyofSciences，Beijing100029，China；2．SchoolofElectronicScienceandTechnology， AnhuiUniversity，He 230039，China；3．ResearchCenterofLaserFusion，ChinaAcademyof EngineeringPhysics．，M ianyang621900，China) Abstract：FortheapplicationoftheX—rayself-standingtransm issiongratingsinthemulti-energy pointimagingspectrometer，2000lp／ram X—rayself-standingtransmissiongratingswithaperiod of500nm ，agoldabsorberthicknessof250nm andthedutycyclenearly1：1weresuccessfully fabricatedby the combination processofelec