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uniformity
Improvementofpanelelectroplatingthickness
全板电镀镀铜均匀性改善
Code:A-039
Paper
黄承明 陈海峰
广州兴森电子有限公司
Tel:020ax:020-maih
作者简介:
黄承明:于2007年开始进入广州市兴森电子有限公司.任工艺部项目开
发工程师,有多年从事线路板技术工作经验。
陈海峰:多年服务于大型线路板公司现场工艺技术研究及管理工作,目前
任广州市兴森电子有限公司工艺部经理。
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摘要:本文主要对阳极挡板的设计进行了优化,通过在边缘效应彭响明显处增加阳极挡板和对屏
蔽过度的挡板进行打孔处理,优化了电力线的分布,达到了提高垂直电镀线电镀厚度均匀性目的;
实验结果表明:整个飞巴的极差由原来的167um降到丁103u驰COV值由原来的755%改善到了
469%,改善效果明显。
关键词:电镀均匀性、边缘效应、阳极挡板、电力线
the to
Abstract:Intins anodebaffleof ismeUomted the
papert panelelectroplatthg improveplating
thickness baffleintheareas effect holesinthe
uniformityByadding∞0de affectedbyedge andmaking
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compared
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effect、anode.h删c、clcc抽cfoteelme
Keywords:electrolyticplatingeventless、edge
1、前育
随着线路板轻、薄、短、小的发展趋势,线路板的线宽、甸歪要求越来越小,线路的精密度要
求也越来越高。当电镀铜厚不均匀时.导致不同厚度的铜面在同一蚀刻时间内产生不同韵蚀刻状态,
从而造成线路过蚀或间距不足,全板电镀镀铜均匀性是精细线路蚀刻的影响因素中不可忽视的重要
因蠢之一。
据我公司研发人员进行丈量的实验研究表明,在正常蚀刻状态下.对于在相同间距的线路情况
5tun(O
下,整板电镀铜厚差异为IO哪时,线宽差异大约为12 5州I).但当铜厚差异25era时,线
宽差异最大达到了13mn以上,同时糟细线路制作时,由于线宽要求越来越小.导致在相同控制公
差要求下,线宽的控制范国越来越小,其控制难度更大.因此需提升电镀的均匀性,减小面铜厚度
之间的差异来达到减小精细线路的线竟差异,对电镀镀层均匀性的研究与改善显得非常重要。
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