磁控溅射工艺对复合结构丝微结构和巨磁阻抗效应及影响.pdfVIP

摘要 摘要 巨磁阻抗(GMr)效应是指铁磁材料的交流阻抗在外加直流磁场的作用下发 生显著变化的现象。这种效应具有灵敏度高、响应快等优点，在磁传感器和磁记 录中有着潜在的应用价值。近年来，复合结构材料成为GMI材料研究中的热点。 相比于匀质材料，复会结构材料的巨磁阻抗效应显著增强，且在较低的频率下就 可以观察到明显的GMI效应。 本文利用磁控溅射的方法制备复合结构丝，从对复合结构丝镀层结构的设计 入手，在制备过程中，通过改变磁控溅射的制备工艺，获得不同微结构和磁性能 的复合结构丝。文章分尉研究了旋转交替、间歇溅射和双磁性层等铡备工艺对复 合结构丝的磁性能和GMI效应的影响。研究内容和结果如下： 1．采用自行设计的旋转换向真空镀膜装置，通过改变丝的旋转方向和交替 次数，制备了一系歹|l总厚度糖同、层数不同斡Nis@e2dCu复合结构丝样品，并 测量了它们的GMI效应。研究发现： (董)交替换惫溅射的样晶存在层闻磁化竞争，宏观磁化是各层之闻磁化竞争 的结果。在层数为1“层的Ni80Fe2dCu复合结构丝中，具有奇数层数的样品在 磁化时拥有优势取向，堡随着层数增多、单层厚度减小，这种优势取向减弱。焉 对于具有偶数层数的样品，最初，随着交替次数增多，其GMI效应有所上升。 国复合结构丝的GMI效应与样品的旋转交替次数和单层厚度有关。存在 一个临界单层厚度，在达到临界值时，GMI效应可以有较大的提高，且观察到 最大阻抗交化的特蔹频率大为减小。交替溅射的NisoFe2dCu复合结构丝在层数 为24层，单层厚度为150nm时，最大阻抗变化可达240％。达到临界厚度后， 再增加交替次数，将使镀层中的秀面增多，此时界面效应增强，磁阻抗效应显示 出减小的趋势。 丝，并通过扫描电镜、X射线衍射手段研究了样品的微结构。测量了样晶的阻抗 谱，并将GMI效应作为研究材料磁性能手段，分析了不同溅射工艺制备对复合 攘要 结构丝软磁镀层的磁性能的影响。研究表稿： 当采用闻歇溅射工艺时，复合结构丝的镀层中出现明显界面。镀层的结晶度 增加，晶粒有所长大。溅射过程存在闻歇，会导致镀层内部结构差异，磁层内部 存在多个各向异性场分布，各层的磁化行为不同，磁导率下降，随外场变化的阻 抗谱不荐是一条光滑的单峰曲线。随着间歇次数的增多，阻抗效应有所减小。对 间歇溅射复合结构丝样品退火后，释放了一部分内应力，阻抗效应增强，且内、 外磁层磁性能趋于一致。 的复合结构丝。对其GMI效应的研究表盟： ． 应力逐渐增大，这时，磁应力各向异性对有效磁各向异性的贡献增大，因此，复 合结构丝的等效各向异性场有骥显增大。 为产生影响，从而改变材料的GMI效应。内层为NiSjoFe抛的复合结构丝显示出 关键词：GMI效应，复合结构丝，各向异性，磁化竞争，界面效应，应力作用 n ABS期受ACT ABSTRACT TheGiant consistsof of Magneto-Impedance(GMr)effectsignificantchanges the value ofsoR materialsthe ofan compleximpedance magnetic uponapplication field．The has e．蛾嬲戚magnetic attractedmuchaRentionOVerthe phenomenon past becauseofits years in headsand