Fabrication of Rutile TiO2 Photonic Crystals by High Energy Kr-ions.pdfVIP

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2018-04-08 发布于湖北
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一—葛￡＼ o I一．I≥。厶∞口一。∽u一口nlJu。一rd 2009 IMP ＆ HIRFLAnnualReport 111 H m 6 2 3—24 FabricationofRutileTi02Photonic CrystalsbyHighEnergyKr。-ions LuoJie，SunYoumei，HouMingdong，DuanJinglai，YaoHuijun ChangHailongandLiuJie Photoniccrvstalwhichhasperiodicarrangementindifferentdielectricmediacanbeusedtocontrole— lectromagneticwavesintwoorthreedimensions．RutileTiO2，oneofthetitanium dioxide TiO2 crystal— lineDolymorphs，hasgreatpotentialinfabricatingphotoniccrystaldevicesduetoitshighrefractiveindex andwidebandgap．Differentmethodshavebeen developed to fabricatetheperiodicstructureofphotonic crvsta1．Themethodofusingswiftheavyionsbeam lithographywithamaskhasbeenappliedtotransfer well-orderednano—andm icro—patternsintorutileTiO2singlecrystals．Theregionirradiatedbytheswift heavvionshasalargeretchingratecomparedwiththeregionwithoutirradiated whensoakedinthesolu— tion—revealinggoodetchingselectivity． ‘ ．＼＼＼＼ 0 4 8 12 16 Fig．2a1 ，b1 andc1 arethepicturesofthegrids； Depthfromthecrystalsurface gm a2 ，b2 andc2 arethepicturesoftheTiOzsamples irradiatedwithKr-ionsbyusing thegridsasmasks； Fig．1 Theetchingdepthofirradiatedregionofthe a3 ，b3 andc3 arethepicturesoftheTi02after sampleswithdifferentenergiesofKr—ions． etching． Therutilesinglecrystalswerecutinto smallwarerswith threedifferentcrystalorientations，1．e．， 1OO ， 110 ， OO1 ，and then polished．To fabricatepatterned structuresofphotoniccrystal，certain kindsofmaskswere