近红外微镜光谱仪光学系统优化设计地研究.pdfVIP

H 第}七目十目半导#物d乍术台Ⅱ论立集 中倒·K存2009年8月16}j-20 近红外微镜光谱仪光学系统优化设计的研究 罗彪．温忠渝，温一I，泉 甫庆人学微系统研究中心，重庆400044 corn Email：luobiaook@sina 引言： 近打外光谱址指波长n0,78～25“m范Ⅲ内的fU磁波。通过对特定物质的近红外光谱分析 可确定其组份，ll有分析样^削IJ量少等优^，广泛麻川1：牛物学等领域，门面光栅除r贝钉 分丸成像的功能外，还』【肯校正像差形成中场谱㈨的特点。传统的近}I外光谱仪的价格…J‘ 红外线阵探测器价格昂贽因而不能迅迷』泛推』_。山rMEMS技术干断成宴!I，器什的稳定性 不断提高，性能小断完善，并H制造I艺’j微咆r技术纛容，使 得生产廉价大节的MEMS器中I_成为可能，本蹬计考虑使用MEMS 技术柬制造扫描微镜，实现单个探删器进千J快速的光谱扫描撵删． 以此来提高光者探测信号的质鼍，降低近孰外光谱仅的成奉。 ：兰，=?-==一 falThe n㈥pixel l设计原理和方法 山丁光学系统出射光求的截㈣一般呈椭圆形．Oj在埘处退化 为直线，称之为教焦线，两敝焦线分别称之为f午焦线和j旺父豫 兰；二芝蔓=：=一一一 s—d 线．本设计利Ⅲ敞焦线的特点，目先耐系统进{，丰JJ始结构的砹计． (hⅡhe pixel 然后利刷光学设计软件ZEMAX对系统进行优化，撮终得到典订 Fi91Scanning…r 平场化暗而特点的分光成像结构，规则，像斑形状，为微镜的设 计和制造完成系统级的设¨仿真。 2光谱仪光学系统的设计与分析 21采用ZEMAX软件设计全息凹面光栅聂光谱仪光路 首先．在带入初始结构以后对软件进打设置。接着．对系统变量进行殴置。最后．针对 以上娈量进行约束(考虑到系统结构的-Ⅱ实现性．必须对变睛进行限制)。完以这些工作后， 就可以启动自动优化功能进行优化。找出最佳结构后，得到像斑的参数，设计微镜的基本参 数，然后把MOEMS元件加入模拟系统的理想像面位置。 2．2扫描系统的设计 在设计巾，利用基于披峰到波符成像削断标准和算法，对系统进{-设计优化，使得像斑 规则化。微镜阵列的设训位置在分光成像系统的理想像佩处。在微镜}1揣II，t存在公接的扫描 K域内安装探测器．埘光酷进行探测。在时某时间段内只允许某微镜对光僻进行反鼻Ifl 描，其他微镜应该处十不产牛f一扰光的静止状态，以防止』“生l。扰光(如FigI)。 2．3设计结果 按先前的设计思路和方法进行优化设“，从设计的结粜可以发现：像斑较为规则，系统 成像的在在纵向最凡可利用的尺寸足为1lOFm，纵向最小可利川的尺寸为tOOpm，达到r蛀 初优化的口的，所以满足微镜阵列制造的上艺和使用的要求。光谱像斑经过微镜反射后，到 达探测器的敏感K域。 3结论 本方法利用了新的掉法帛l优化标准，采用光学设计软件进行凹咖光栅发光路的设计，系 第十七届全国半导体物理学术会议论文集 中国·长春2009年8月16日．20日 统参数性能达到标准；微镜阵列的相关参数也设计满足了最初的设计目的，达到了微镜扫描 光谱的要求。在所设计的光谱范围匹J(900—1400hm)分辨率为5rim，达到了预期中使用扫描微 镜扫描探测光谱，降低了微镜制造的工艺难度的要求。特别是采用光学设计软件进行设计， 能对整个光学系统的设计结果迅速进行评价，提高了设计结果的可信度及工作效率，为下一 阶段进行微镜