NdFeB永磁薄膜的制备方法及其研究进展.pdfVIP

山西冶盒 Total142 誊纛鬻嘉 SHANⅪMETAIIJmGY No．2，2013 文章编号：1672—1152{2013)02--0001-04 NdFeB永磁薄膜的制备方法及其研究进展★ 张海杰，张敏刚，刘文峰， 陈峰华，李敏杰 (太原科技大学材料科学与工程学院， 山西太原030024) 摘要：综述了NdFeB永磁薄膜的制备方法和原理；介绍了NdFeB永磁薄膜的研究进展；指出了NdFeB永磁 薄膜存在的问题；并对NdFeB永磁薄膜未来的发展方向及应用前景进行了展望。 关键词：NdFeB永磁薄膜削备进展 中图分类号：TGl39．7 文献标识码：A 收稿日期：2013—03—02 NdFeB永磁材料具有优异的磁学性能，广泛应 用于发电机、汽车、医疗仪器和计算机等高新技术领 域，是支撑现代电子信息产业的重要基础材料之_』¨。 随着电子器件及系统向微、精、薄、智能化方向发展， 对NdFeB永磁薄膜的需求日益剧增2】。然而，由于 NdFeB块体一般较脆，切割的极限仅为100 tun，而 溅射粑 且很难保证切割薄膜的完整性和精度，因此很难用 切割的方法制备NdFeB永磁薄膜3】。随着薄膜技术 的发展，NdFeB永磁薄膜的制备方法也实现了多元 图1磁控溅射原理图 化。目前，NdFeB永磁薄膜的主要制备方法有磁控溅同。直流磁控溅射利用直流辉光放电，其特点是在阳 射法，离子束溅射法，脉冲激光沉积法和分子束外延 极基片和阴极靶材之间加一个直流电压，阳离子在 法等，下面对这几种方法的制备原理做简要介绍。 电场的作用下轰击靶材，溅射速率较快，但一般只能 1 N皿eB永磁薄膜的制备方法 用于金属靶材，因为如果是绝缘体靶材，由于阳离子 1．1磁控溅射法 在靶的表面不断积累，会使溅射速率越来越低，造成 “靶中毒”现象。射频磁控溅射采用的是射频放电，带 磁控溅射法(magnetronsputtering)是NdFeB永 磁薄膜最常用的制备方法之一，其制备原理是在高 电粒子在电极间往复震荡并相互碰撞电离，电极无 真空充入适量氩气，经阴极和阳极所加的高直流电 需与等离子体接触也能维持放电，溅射速率一般较 压(约几百千伏)的作用，在溅射室内产生辉光放电， 慢，薄膜的致密性高5】。 从而使气体发生电离后而形成的氩离子在电场的作 对于NdFeB永磁薄膜而言，直流和射频溅射都 Sn 用下轰击靶材，使靶材表面原子或原子团逸出，逸出 有研究。Chen6】用直流溅射在si基片上沉积了 的原子沉积在基底表面形成与靶材表面成分相同的 NdFeB永磁薄膜，研究了沉积速率对薄膜性能的影 薄膜4】。其原理如图1所示。 响，发现沉积速率单调增加，进而影响薄膜的磁性 磁控溅射法又分为直流磁控溅射法(DC)和射能。当溅射速率小于等于O．5nm／s时，薄膜的矫顽力 频磁控溅射法(RF)，其主要区别在于放电方式的不较小。当溅射速率大于等于0．6nm／8时，薄膜的矫顽 力升高，最大达到14．5kOe，这是因为溅射速率较 ★基金项目：山西省自然科学基金(20080l1042-2)；山 西省研究生优秀创新项目；太原市大学生创新创