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维普资讯
第 l8卷专辑1 中国有色金属学报 2008年 6月
Vo1.18Special1 TheChineseJournalofNonferrousMetals
Jun.2008
文章编号:1004.0609(2008)$1.0106.06
粗锑 电解精炼除铋
林 艳 ,谢 刚 ,杨大锦 ,李荣兴
(1.昆明理工大学 材料与冶金工程学院, 昆明 650093;
2.云南冶金集团总公司技术中心,昆明 650031)
摘 要:针对粗锑精炼过程中锑铋难以分离的技术难点,采用H2SO4.NI-hF.SbF3电解液体系进行高铋粗锑电解精
炼除铋,考察温度、电流密度及添加剂对除铋的影响。通过扫描电镜(SEIv0分析,研究添加剂对阴极锑沉积形貌
的影响。获得水溶液电解精炼除铋的最佳工艺条件为:室温(25℃),电流密度为400A/m2,异极距草
酸加入量为 10g/L,电解周期为24h。实验结果表明,锑电结晶按螺旋位错生长机理进行,其晶体呈三角棱锥结
构;当草酸含量在适当范围之内时,锑镀层的生长机理无明显变化。
关键词:锑;电解精炼;铋;草酸
中图分类号:TB331;TH117I3 文献标识码:B
Bismuthremovalfrom crudeantimonybyelectrorefining
LINYan,XIEGang,YANGDa-jin2,LIRong.xing
(1.FacultyofMaterialsnadMetallurgicalEngineering,KunmingUniversiytofSciencenadTechnology,
Kunming650093,China;
2.TechniqueCenterofYunnanMetalluryg Co.Ltd,Kunming650031,China)
Abstract:Itisdifficulttoseparatebismuth andnatimonyin hteprocessofcruderefining.Theelectrorefiningof
high-bismuhtnatimonywasstudiedbyusingammonium fluoride-natimonysulphateelecrtolytesystem.Th einfluencesof
temperature,currentdensiyt nadadditivesonbismuthremovalfrom curdenatimonywerediscussed.Th eeffectof
additivesonmorphologiesofcahtodicdepositionlayerwasinvestigatedby scanningelecrtonmicroscopy(SEM).
Optimmu processparameters,namely,temperatureof25 ℃,currnetdensiytof400A/m2,distancebetweennaodenad
cathodeof50nlnl,oxalicaciddosageof10g/Lnadelecrtolyticperiodof24h,wereascertained.Th eresultshowshtat
elecrtocrystallizationofnatimonyfollowshtescrew dislocationgrowthmechnaism wiht atrigon~pyramidsstr
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