碳化硅反射镜表面粗糙度的优化.pdfVIP

激兴与光 电字学进展 Laser＆ 0ptoelectronicsProgress ~20144中国激光》杂志社 碳化硅反射镜表面粗糙度的优化 范汜 镝调 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室，吉林 长春 130033 摘要 空间光学技术 的迅猛发展对空间光学系统提 出了更高的要求 ；碳化硅材料以其优秀的物理性质 ，成为广泛应 用的反射镜材料 ；碳化硅反射镜 的光学加工研究也在国内外广泛开展 。简要讨论 了碳化硅反射镜的抛光机理 ；介绍 了碳化硅材料抛光的实验方法 ；定性分析 了碳化硅材料 的抛光过程 ；通过大量 的工艺实验和理论分析 ，讨论磨料粒 度 、抛光盘材料 、抛光盘压力 、抛光盘转速 、抛光液酸碱度等工艺参数对碳化硅反射镜表面粗糙度的影响，并对各个参 数加 以优化 ，得到了优 良的实验结果 。 关键词 光学制造；碳化硅；抛光 ；表面粗糙度；优化 中图分类号 TN248．1 文献标志码 A doi：10．3788几0P51．092206 Optim ization ofSiC M irrorSurfaceRoughness FanDi KeyLaboratoryofOpticalSystem AdvancedManufacturingTechnology，ChangchunInstituteofOptics FineMechanicsandPhysics，ChineseAcademyofSciences，Changchun，Jilin130033，China Absract Astheaerospacetechnologydevelopsrapidly，morerequirementsontheaerospaceopticsystem are needed．With excellentphysicalproperties，SiC becomes a very prom ising m aterialfor speculum s．The mechanism ofpolishing on SiC mirror surface is studied，the experimentalmethod ofSiC polishing is introduced，andthepolishingprocessisanalyzed quantatively．Thekeyfactorsaffectingthesurfacequalityof SiC m irrorIsuchastools，abrasives，load，rotationalspeedandslurrypH arestudied，chosenandoptimizedby plentyofexperimentsandtheoreticalanalysis，andbetterresultsareobtained． Keywords opticalfabrication；SiC；polishing；surfaceroughness；optim ization oCIS code 220．4610；220．5450；240．5450 l 引 言 随着空间光学技术的迅猛发展，对空间光学系统提出了更高的要求，对反射镜和光学元件 的要求也越 来越高 。为了保证反射镜在工作状态下和加工过程中的结构稳定 ，并考虑到空间光学系统对反射镜质量 的 要求 ，反射镜材料应符合下列物理指标要求 ：高弹性模量 、低密度 、低热膨胀系数 、无热应力 、高热导率 、热性 能与机械性能 的各 向同性 。碳化硅材料 以其较高的弹性模量 ，适 中的密度 ，较小 的热膨胀系数 ，较高的导热 系数 ，耐热冲击性 ，高 比刚度和高尺寸稳定性等一系列优秀的物理性质 ，成为应用广泛的反射镜材料 。碳 化硅反射镜光学表面的光学加工研究也在国内外广泛开展 ，其表面粗糙度的