Electron Beam Lithographic Pixelated Micropolarizer Array for Real-Time Phase Measurement.pdfVIP

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2017-08-21 发布于湖北
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CHIN．PHYS．LETT．Vo1．31，No．11(2014)114208 ElectronBeam LithographicPixelated M icropolarizerArray forReal-TimePhase M easurem ent ZHANGZhi—Gang(张志刚)，DONGFeng-Liang(董凤良)，CHENGTeng(程腾)，QIANKe-Map(钱克矛)。 QIUKang(仇康)，ZHANGQing—Chuan(张青川) ，CHUWei—Guo(褚卫国)。，wuXiao—Ping(伍小平) CAS KeyLaboratoryofMechanicalBehaviorandDesign ofM aterials，DepartmentofM odernM echanics， UniversityofScienceandTechnologyofChina，Hefei230027 。Nanofabrication Laboratory, NationalCenterforNanoscienceandTechnology,Beijing100190 。SchoolofComputerEngineering，NanyangTechnologicalUniversity,Singapore639798，Singapore (Received28August2014) Pixelatedmicropolarizerarrays(PMAs)haverecentlybeenusedaskeycomponentstoachievereal-timephase measurement．PMAfabricationby electronbeam lithographyandinductivelycoupledplasma-reactiveionetching isproposedinthiswork．A 320x240aluminum PMA with 4“m pitchjssuccessfullyfabricatedbytheproposed technique．Theperiod ofthegratingis140nm ，and thepolarization directionsofeach ofthe2x 2unitsare 0。．45。．90~．and 135。．Thescanning electron microscopy and opticalmicroscopy resultsshow thatthe PM A has agood surfacecharacteristicand polraization performances．W hen thePM Al isapplied tophas e-shifting jnterferometry,ofurfringepatternsofdifferentPolarization directionsareobtained from onlyonesinglerfame image．andthentheobjectwavephasejscalculatedinrealtime． PACS：42．87．Bg,42．25．Ja，81．16．Nd DOI：10．1088／0256—307x／31／11／1l4208 Phase—shifting interferometry techniques．includ— PMA with otherfunctionalsubstrates．[18—20]which ingtimethephase—shiftingfTPS1technique[1-3[and would be a good choice for volume production of thespacephase—shiftingfSPS1technique，4【 Jhave PMA．T0 fabricate the PMA based on the nano— been rapidly developed overthe pastfew