FIBSEM双束系统在微纳加工与表征中的应用.pdfVIP

第 32卷 第 12期 中国材料进展 Vo1．32 No．12 2013年 l2月 MATERIALSCHINA Dec．20l3 FIB／SEM双束系统在微纳加工与表征 中的应用 彭开武 (国家纳米科学中心 纳米检测实验室 ，北京 100190) 摘 要：简要回顾了聚焦离子束／扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子 显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征，以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加 _r、材料沉积加工如用于 电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰 、j维加工、电子束曝光及其与 聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面，以一些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的一些不利因素，如加工效 率低、面积小 、精度不足、加工损伤等问题，一些新技术如新型离子源Plasma、He ／Ne 离子等与现有Ga 聚焦离子束系统 配合将成为未来发展方向。 关键词：聚焦离子束；双束系统；纳米材料表征；纳米结构加工；电子束曝光；透射电镜样品制备 中图分类号：TN405 文献标识码 ：A 文章编号：1674—39622《013)12—0728—07 ApplicationsofFIB／SEM DualBeam System for M icro．Nanofabrication andCharacterizati0n PENC Kaiwu (TestingLaboratoryforNanostructures，NationalCenterofrNanoscienceandTechnology，Beijing100190，China) Abstract：TheapplicationsofFocusedIonBeam (FIB)／ScanningElectronMicroscopy(SEM)DualBeam system at NationalCenterofrNanoscienceandTechnologyofrmicro．nanofabricationandcharacterizationofnanomaterialarebriefly reviewedbymeansofalotoftypicalpracticalexamples．Regardingcharacterizationofnanomateria1．thecapabilities，such asTEM samplepreparation，ScanningIonMicroscopy(SIM)．2Dand3Dcharacterizati)【nofnanomaterial，areillustra— ted．Andasformicro—nanofabrication，theapplicationsinclude：(1)directmillingfornanostruetures．forinstance，pho— tonicarrayprototyping；(2)precisematerialdeposition，f0rexample，platinummetaldepositionofrfour—electrodemeas— urement；(3)sitespecificfabrication，suchasAFMtipmodification；(4)3Dnanofabrication；(5)electronbeamlithog— raphy(EBL)anditscombinationwithFIB．TheapplicationfieldsofDualBeamsysteminvolvematerialscience．electron— ics，lifescienceandnaturalresources．Toextendtheapplicationfield，anumberofnew technologie