液相自组装法制备铁酸铋薄膜及性能研究.pdf

液相自组装法制备铁酸铋薄膜及其性能研究 摘要 多铁材料BiFe03由于其在室温下具有铁磁性，铁电性以及铁弹性共存 的特性，使得它近年来受到了广泛的关注。BiFe03不仅在铁电器件和磁性 器件方面具有重要的应用前景，而且它也可在磁电耦合方面应用，因此它为 器件模块设计及应用提供了广阔的自由度，具有广阔的应用前景。液相自组 装技术是在传统的液相沉积法基础上，通过结合仿生合成理论所形成的新的 制膜方法。近年来，由于其有原位自发形成、成键高度有序排列，缺陷少、 结合力强、呈“结晶态”等特点，而被广泛应用于功能陶瓷薄膜的制备中。 玻璃基片上制备了纯相和La掺杂BiFe03晶态薄膜，并研究了制备工艺和镧 本论文得到的主要结果如下： 随频率的增大而减小。在薄膜的损耗．频率曲线中观察到共振峰的存在。随 着pH的增加，薄膜的致密性变差，电容减小，损耗增加。 2．随着沉积温度的升高，BiFe03的衍射峰强度逐渐增强，表面吸附的 大颗粒增多，导致BiFe03薄膜的电容逐渐减小，损耗逐渐增加，该工艺制 备BiFe03薄膜沉积温度以75℃为宜。 导致薄膜电容减小，损耗增加。合适的Fe3+／Bi”摩尔比为2．6。 粒发育完整。随着退火温度的增加，保温时间的延长，BiFe03薄膜的电容 逐渐增加，损耗逐渐减小。退火温度过高，会导致Bi25Fe040杂相生成，晶 粒异常长大；保温时间过长，会导致BiFe03高温分解；两种情况都会导致 BiFe03薄膜的电容减小，损耗增大。 5．液相自组装法制备纯相BiFe03薄膜可以在不同pH值的前驱液中制 到ITO玻璃基片上，形成牢固的化学键结合，退火处理后形成晶态BiFe03 浮膜。 6．La的最佳掺入量为5％。随着La掺杂量的增加，衍射峰向小角度衍 射角方向出现了明显的偏移，BiFe03薄膜的电容逐渐增加，损耗逐渐降低。 7．柠檬酸浓度以0．02mol／L为宜，偏大或偏小都会导致杂相生成。柠 檬酸浓度过低，生长的薄膜较薄且缺陷较多；随着柠檬酸浓度的增加，缺陷 减少，薄膜致密，电容增加，损耗减小。 8．前驱液浓度过低，薄膜为一些不连续的小块；随着前驱液浓度的增 加，BiFe03薄膜结晶性提高，缺陷减少，致密性提高，电容增加，损耗减 小；浓度过大，前驱物容易团聚，表面吸附有大量团聚大颗粒，导致薄膜电 容下降，损耗增加。 关键词：自组装，纯相铁酸铋薄膜，La掺杂，电容，损耗 Ⅱ PROPERTIESOF PREPARATIoNAND STUDYoF FILMBYTHE PHASE BiFeOs LIQUID METHoD SEMBLED SELF．AS ABSTRACT andmoreattentionsinceitshowed hasattractedmore MultiferroicBiFe03 the of andthe at coexistence ferroelasticity ferromagnetism，ferroelectricity ambient isa ofmost materialsinceitCallnot conditions．BiFeOa type promising b