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第29卷第4期增刊 仪 器 仪 表 学 报 Vbl.29No.4
2008年4月 ChineseJoumalofScient讯cInstmment A
pr.2008
PECVD镀膜机等离子体静电探针诊断半
王庆1巴德纯1徐香坤2徐化冰3
(1东北大学机械工程与自动化学院沈阳110004:
2沈甩j理工大学应用技术学院抚顺113122:
3渤海船舶职业学院动力工程系葫芦岛125000)
摘要开发了一个朗缪尔探针等离子体诊断系统对PEcVD真空镀膜机进行了等离子体参数诊断。该镀膜机内的等离子体是电
镀膜机中氩等离子体的参数(等离子体密度和电子温度)进行了诊断分析。结果表明:电子温度在2.7eV和6.4eV之间,并且随
着射频功率的增加而降低。而等离子体的密度在8×10”m-3到0.85×10“m_3的范}硝随着射频屯源的增加而增加。
关键词等离子体增强化学气相沉积镀膜机等离子体诊断朗缪尔探针
中图分类号TH873.7文献标识码A 国家标准学科分类代码 140.5045
Probein
Plasma PECVD Machine
DiagnosisUsingLangmuir Coating
BaDechunlXu Xu
WangQin91 Xiangkun2Huabin93
SchoolMechnn{cal l lo004。Chinn:
n cf Engineering&Automnti0H:NorthensternUn如ersil)}:Shenynng
2 l 13122.ChinⅡ;
School谚AppiicnIionTechnoto斟:She唧nngn90ngUni、)ers渺:Fushun
3 yocdttonnl l
DepQrlment可DynnmicE鸭i他ering:BohaiShipbHildingcollege;Hu|Hdao25000.Chi岫
Abstract:Anew with is tomeasurethe
diagnosticsystemLangmuirprobedesigned parameters
plasma plasma
ina enhancedchemical machine.ThedriVen
plasma Vapordeposition(PECVD)Vacuumcoating plasma by
is
radio-f.requency(RF)powersupplycapacitiVelycoupledplasmas(CCP).
The suchasthe and aremeasured
densityelectron
plasmaparameters plaSma temperatureplasm
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