PECVD镀膜机等离子体静电探针诊断.pdfVIP

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第29卷第4期增刊 仪 器 仪 表 学 报 Vbl.29No.4 2008年4月 ChineseJoumalofScient讯cInstmment A pr.2008 PECVD镀膜机等离子体静电探针诊断半 王庆1巴德纯1徐香坤2徐化冰3 (1东北大学机械工程与自动化学院沈阳110004: 2沈甩j理工大学应用技术学院抚顺113122: 3渤海船舶职业学院动力工程系葫芦岛125000) 摘要开发了一个朗缪尔探针等离子体诊断系统对PEcVD真空镀膜机进行了等离子体参数诊断。该镀膜机内的等离子体是电 镀膜机中氩等离子体的参数(等离子体密度和电子温度)进行了诊断分析。结果表明:电子温度在2.7eV和6.4eV之间,并且随 着射频功率的增加而降低。而等离子体的密度在8×10”m-3到0.85×10“m_3的范}硝随着射频屯源的增加而增加。 关键词等离子体增强化学气相沉积镀膜机等离子体诊断朗缪尔探针 中图分类号TH873.7文献标识码A 国家标准学科分类代码 140.5045 Probein Plasma PECVD Machine DiagnosisUsingLangmuir Coating BaDechunlXu Xu WangQin91 Xiangkun2Huabin93 SchoolMechnn{cal l lo004。Chinn: n cf Engineering&Automnti0H:NorthensternUn如ersil)}:Shenynng 2 l 13122.ChinⅡ; School谚AppiicnIionTechnoto斟:She唧nngn90ngUni、)ers渺:Fushun 3 yocdttonnl l DepQrlment可DynnmicE鸭i他ering:BohaiShipbHildingcollege;Hu|Hdao25000.Chi岫 Abstract:Anew with is tomeasurethe diagnosticsystemLangmuirprobedesigned parameters plasma plasma ina enhancedchemical machine.ThedriVen plasma Vapordeposition(PECVD)Vacuumcoating plasma by is radio-f.requency(RF)powersupplycapacitiVelycoupledplasmas(CCP). The suchasthe and aremeasured densityelectron plasmaparameters plaSma temperatureplasm

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